[发明专利]显微镜物镜和具有这样的物镜的显微镜有效

专利信息
申请号: 201880053905.1 申请日: 2018-08-06
公开(公告)号: CN111095039B 公开(公告)日: 2022-11-25
发明(设计)人: 托马斯·奥特;迈克尔·古格拉;托尔斯滕·库斯 申请(专利权)人: 卡尔蔡司显微镜有限责任公司
主分类号: G02B1/18 分类号: G02B1/18;G02B21/02
代理公司: 北京市创世宏景专利商标代理有限责任公司 11493 代理人: 崔永华
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显微镜 物镜 具有 这样
【说明书】:

发明涉及一种用于使用显微镜对样品成像的显微镜物镜,所述显微镜物镜(7)被设计为用于在没有浸渍介质的情况下的显微镜检查的空气物镜,或者被设计为用于在具有油基浸渍介质的情况下的显微镜检查的油浸物镜,或者被设计为用于在具有水基浸渍介质的情况下的显微镜检查的水浸物镜。所述显微镜物镜(7)的前透镜(8)设置有涂层(10),所述涂层排斥浸渍介质,并且如果所述物镜是空气物镜则是疏脂性且疏水性的,如果所述物镜是水浸物镜则是仅疏脂性的,并且如果所述物镜是油浸物镜则是仅疏水性的。

发明领域

本发明涉及一种用于使用显微镜对样品成像的显微镜物镜,其中,显微镜物镜被实施为用于在没有浸渍介质的情况下的显微镜检查的空气物镜,或者被实施为用于在具有油基浸渍介质的情况下的显微镜检查的油浸物镜,或者被实施为用于在具有水基浸渍介质的情况下的显微镜检查的水浸物镜、或者被实施为用于在没有浸渍介质的情况下或在具有油基浸渍介质的情况下或在具有水基浸渍介质的情况下选择性地执行显微镜检查的多浸渍物镜。本发明进一步涉及一种包括这样的显微镜物镜的显微镜。

背景技术

在显微镜检查中,浸渍物镜的使用提供了许多优点,所述优点最终源于物镜的可获得的更高的孔径。具有尽可能高但不超过样品盖玻片的折射率的浸渍介质使显微镜检查中的孔径最大化。取决于样品的类型使用不同的浸渍介质,包含用于水的有机替换介质,例如,卡尔·蔡司浸渍溶胶W(Carl Zeiss Immersol W)和浸渍溶胶G(Immersol G)。通常,浸渍介质在常温下是液体。水基浸渍介质被用于位于水性环境中的活细胞的显微镜检查。由于在那种情况下浸渍介质和样品介质的折射率非常相似,但是盖玻片通常具有不同的折射率,因此需要光学校正以避免当更深地穿透到样品中时的球面像差。然而,这种校正仅适用于特定盖玻片厚度和类型,这就是为什么水浸物镜通常具有校正机构,所述校正机构通过将物镜中的透镜或透镜组移位来校正形成校正的基础的盖玻片厚度和类型的偏差。

现有技术已经公开了用于确保显微镜物镜的前透镜用浸渍介质尽可能完全地润湿的各种方法。EP 1717628 A1和EP 2256535 A1公开了一种用于倒置显微镜物镜(即,从下方通过显微镜检查来检查样品的显微镜物镜)的机构。在透镜壳体的前侧边缘上设置了机构,所述机构防止放置在前透镜上的浸渍液滴在透镜壳体的前边缘上方流走。此外,提供了以目标方式向下排出浸渍液体的排出管。边缘的内部区域被配置成排斥设计显微镜时所针对的浸渍液体。周围的外部区域以完全相反的方式来配置,并且因此它将已经到达它的浸渍液体排出到外部。参考进一步的公开,JP 4603295讨论了防止物镜内部被浸渍液体污染的各种概念。其中描述的两种解决方案对应于前述EP文件的解决方案。在日本公开中描述的第三种解决方案在物镜上设置凹槽,所述凹槽防止过量的浸渍液体流入物镜中。此外,对于基于油浸的显微镜,JP 4603295提出了在透镜表面上的亲脂性涂层,所述亲脂性涂层被透镜表面的边缘上的疏脂性涂层包围。因此,在各种方法中,该现有技术考虑如何可以避免浸渍液体污染物镜或者如何可以以目标方式排出过量的浸渍液体。

然而,由其独立地产生的问题是,由对更高分辨率的期望所驱动的浸渍液体的更大范围和显微镜物镜对特定浸渍介质的更大专业化,使得使用者更加难以避免物镜与错误的浸渍液体的不正确使用。通常,不正确使用本身表现为成像质量不足。

发明内容

因此,本发明基于确保显微镜检查中一致的高成像质量的目标。

在独立权利要求中定义了本发明。从属权利要求定义了优选的配置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡尔蔡司显微镜有限责任公司,未经卡尔蔡司显微镜有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880053905.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top