[实用新型]用于加热烹饪装置的支架及加热烹饪装置

说明书

本实用新型公开了一种用于加热烹饪装置的支架及加热烹饪装置。的支架包括呈环状的主体部，主体部包括第一凸起部和第二凸起部，第一凸起部的至少部分端面适于与锅具的底面接触，加热烹饪装置的上表面适于与第二凸起部的至少部分端面接触，第一凸起部的端面与第二凸起部的端面之间具有预定的垂直距离。根据本实用新型的用于加热烹饪装置的支架，在利用底部为圆底的锅具进行烹饪时，可将锅具的部分底部放置在第一凸起部和第二凸起部之间的空间内，由此提升锅具的平稳性，进而可以利用平面电磁力对圆底锅具进行烹饪，从而扩大了平面加热烹饪装置的适用范围。另外，第一凸起部的侧壁对锅具有导引作用，有利于锅具在支架上进行溜锅、翻炒等操作。

技术领域

本实用新型涉及生活电器领域，尤其是涉及一种用于加热烹饪装置的支架及加热烹饪装置。

背景技术

平面加热烹饪装置的表面为平面，该种平面加热烹饪装置对锅具底面的形状要求较高，仅能适用于底面为平面的锅具，而圆底的锅具无法在平面加热烹饪装置上使用，导致平面加热烹饪装置的使用范围窄，不方便用户使用。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型的一个目的在于提出一种用于加热烹饪装置的支架，所述加热烹饪装置的支架具有结构简单、方便使用的优点。

本实用新型的另一个目的在于提出一种加热烹饪装置，所述加热烹饪装置具有如上所述的支架。

根据本实用新型实施例的用于加热烹饪装置的支架，包括主体部，所述主体部呈环状，所述主体部包括多个间隔开的第一凸起部和多个间隔开的第二凸起部，所述第一凸起部的至少部分端面适于与锅具的底面接触以支撑锅具，所述加热烹饪装置的上表面适于与所述第二凸起部的至少部分端面接触以支撑所述主体部，所述第一凸起部的端面与所述第二凸起部的端面之间具有预定的垂直距离。

根据本实用新型实施例的用于加热烹饪装置的支架，通过在第一凸起部的端面与第二凸起部的端面之间设置预定的垂直距离，在利用底部为圆底的锅具进行烹饪时，可以将锅具的部分底部放置在第一凸起部和第二凸起部之间的空间内，由此提升锅具的平稳性，进而可以利用平面电磁力对圆底锅具进行烹饪，从而扩大了平面加热烹饪装置的适用范围。另外，通过设置第一凸起部，第一凸起部的侧壁对锅具有导引作用，当将锅具放置在第一凸起部上时，有利于锅具在支架上进行溜锅、翻炒等操作。

在一些实施例中，所述第一凸起部的端面设有凸点，所述凸点适于与所述锅具的底面接触以支撑所述锅具。

在一些实施例中，所述凸点上与所述锅具接触的表面为弧形面。

在一些实施例中，每个所述第一凸起部具有多个所述凸点。

在一些实施例中，所述支架包括滚珠，所述滚珠嵌设于所述第一凸起部，且所述滚珠相对于所述主体部可滚动。

在一些实施例中，所述滚珠呈球体或圆柱体。

在一些实施例中，所述第一凸起部的端面具有凹槽；所述支架包括枢转件，所述枢转件设于所述凹槽内，且所述枢转件相对于所述主体部可枢转，所述枢转件具有枢转轴，所述枢转轴的端部穿设于所述凹槽的侧壁。

在一些实施例中，所述枢转轴为一个，所述枢转轴位于所述枢转件的一侧，且所述枢转轴穿设于所述凹槽的一侧的侧壁。

在一些实施例中，所述枢转轴为两个，其中一个所述枢转轴位于所述枢转件的一侧且穿设于所述凹槽的一侧的侧壁，其中另一个所述枢转轴位于所述枢转件的另一侧且穿设于所述凹槽的另一侧的侧壁。

在一些实施例中，所述主体部的横截面积呈圆形、椭圆形或正方形。

根据本实用新型实施例的加热烹饪装置，包括如上所述的用于加热烹饪装置的支架。