[实用新型]一种晶粒细化金属电镀装置有效
申请号: | 201820195101.2 | 申请日: | 2018-02-05 |
公开(公告)号: | CN207918990U | 公开(公告)日: | 2018-09-28 |
发明(设计)人: | 罗琳;杨红;杨波;黄海兵 | 申请(专利权)人: | 深圳市瑞世兴科技有限公司 |
主分类号: | C25D5/00 | 分类号: | C25D5/00;C25D21/18 |
代理公司: | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人: | 黄良宝 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区沙井街道*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 电磁体 连接管 金属电镀 晶粒细化 进液管 磁力线 磁化装置 液体路径 控制器 出液管 垂直的 容腔 金属络合离子 本实用新型 金属阳离子 控制器连接 切割磁力线 操作面板 磁极相对 分散状态 相对设置 小分子团 抽液泵 电镀 镀液 减小 弯折 切割 节约 | ||
本实用新型提供了一种晶粒细化金属电镀装置,包括进液管、出液管和控制器,进液管上设有抽液泵,进液管与出液管之间还设有磁化装置,磁化装置包括连接管和两个电磁体,所述连接管弯折形成两个容腔,两个电磁体分别放置在两个容腔内,所述两个电磁体的南北磁极相对设置产生与连接管内液体路径相垂直的磁力线;所述两个电磁体分别与控制器连接,所述控制器还连接有数显操作面板。与现有技术相比,该晶粒细化金属电镀装置,通过在液体流经的连接管的两侧相对设置安装电磁体,电磁体产生与液体路径相垂直的磁力线,液体切割磁力线做运动,液体中的金属络合离子团被切割成分散的小分子团,镀液中金属阳离子分散状态有助于电镀,节约成本,减小劳动强度。
技术领域
本实用新型涉及电镀领域,特别是一种晶粒细化金属电镀装置。
背景技术
金属电镀层的好坏直接影响基材的质量和使用寿命。电镀溶液的品质直接决定了镀层的好坏。金属阳离子很容易跟溶液中的有机阴离子集团络合,阳离子以络合团形式分散在镀液中。金属阳离子络合团的大小直接影响最终镀层的性能,这些性能包括:表面粗糙度、硬度、耐蚀性、耐磨性、抗高温氧化性,其次,也会影响镀液的使用周期,进而影响电镀生产的成本。
现有技术中一般采用在镀液中加入纳米粒子的方式达到纳米镀的作用,具体的做法是在镀液中添加无机非银纳米粒子,如 Si、SiO2、SiC、Al2O3等,从而获得一些功能性镀层,如 :耐高温镀层、耐磨镀层、耐腐蚀性镀层等。但是,即便加入了纳米粒子,纳米粒子分散在镀液中也有团聚问题,尤其是在较高温度的水性镀液中,团聚的纳米粒子粒径变大,使其在镀液中的分散变得困难。
除了添加纳米粒子达到分散镀液的作用,另外也有在电镀过程中添加机械搅拌设备的,具体做法是在镀液池中安装振动装置;也有通过提供一种金属纳米电镀设备,将金属纳米粒子添加到电镀镍溶液中,以较佳的搅拌效果提高纳米粒子在镀液中的分散状态,制备耐蚀、高硬度、高附着力的纳米复合镀层。但是机械搅拌的作用力有限,纳米粒子的分散在溶液中只能在一段时间内打散金属电镀阳离子团,外力撤消后重新聚合成团。
实用新型内容
针对现有技术的电镀液中金属阳离子容易跟溶液中的有机阴离子集团络合的问题,本实用新型提供了一种晶粒细化金属电镀装置,通过在线处理镀液的方式,使镀液中的金属电镀阳离子络合团分散在镀液中,并在一段足够长的时间内不会再次络合成大离子团,镀液中金属阳离子分散的状态有助于电镀。
本实用新型采用的技术方案为:
一种晶粒细化金属电镀装置,包括进液管、出液管和控制器,进液管上设有抽液泵,进液管与出液管之间还设有磁化装置,磁化装置包括连接管和两个电磁体,所述连接管弯折形成两个容腔,两个电磁体分别放置在两个容腔内,所述两个电磁体的南北磁极相对设置产生与连接管内液体路径相垂直的磁力线;所述两个电磁体分别与控制器连接,所述控制器还连接有数显操作面板。
优选地,所述控制器还连接有风扇。
优选地,所述晶粒细化金属电镀装置还包括箱体,进液管、出液管、控制器和磁化装置都设置在箱体内,数显操作面板和风扇设置箱体外。
更优选地,所述箱体为不锈钢材料制成。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果在于:本实用新型提供一种晶粒细化金属电镀装置,通过在液体流经的连接管的两侧相对设置安装电磁体,电磁体产生与液体路径相垂直的磁力线,液体切割磁力线做运动,液体中的金属络合离子团被切割成分散的小分子团,并在一段足够长的时间内不会再次络合成大离子团,镀液中金属阳离子分散的状态有助于电镀,这样在同样条件下,使用该镀液形成的镀层厚度更薄,节约电镀成本,同时对药水浓度的要求降低,延长了药水的服役期,节省药水成本和人工的劳动量。
附图说明
图1为本实用新型提供的一种晶粒细化金属电镀装置的示意图;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市瑞世兴科技有限公司,未经深圳市瑞世兴科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820195101.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。