[发明专利]一种负载DOX的纳米贴剂及其制备方法在审
| 申请号： | 201811469886.9 | 申请日： | 2018-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN109432426A | 公开（公告）日： | 2019-03-08 |
| 发明（设计）人： | 齐伟;张晓悦 | 申请（专利权）人： | 曲阜师范大学 |
| 主分类号： | A61K41/00 | 分类号： | A61K41/00;A61K9/70;A61K47/04;A61K31/704;A61P35/00 |
| 代理公司： | 北京知呱呱知识产权代理有限公司 11577 | 代理人： | 武媛;吕学文 |
| 地址： | 273165 山东省济*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 羧基化 纳米贴剂 硫化铜 石墨烯 纳晶 制备 沉积 石墨烯分散液 石墨烯溶液 避光反应 溶液混合 正常细胞 肿瘤生长 中负载 基底 粘贴 浸泡 杀死 释放 重复 | ||
1.一种负载DOX的纳米贴剂的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
(a)将羧基化石墨烯分散液与DOX溶液混合、避光反应、离心得到负载DOX的羧基化石墨烯；
(b)将基底依次浸泡于负载DOX的羧基化石墨烯溶液和硫化铜纳晶溶液中，进行负载DOX的羧基化石墨烯和硫化铜纳晶的沉积；
(c)重复步骤(b)中负载DOX的羧基化石墨烯和硫化铜纳晶的沉积操作，即得负载DOX的纳米贴剂。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述羧基化石墨烯的尺寸为0.05-0.15μm2。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述硫化铜纳晶粒径为10-20nm。
4.根据权利要求1-3任一所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(c)中，重复步骤(b)中负载DOX的羧基化石墨烯和硫化铜纳晶的沉积操作2-4次。
5.根据权利要求1-3任一所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(a)中，羧基化石墨烯分散液浓度为0.5-1.5mg/ml；DOX溶液浓度为1.5-2.5mg/ml。
6.根据权利要求1-3任一所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(a)中，反应时间11-13h；离心转速为6000-10000r/min，离心时间为8-12min。
7.根据权利要求1-3任一所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(b)中，负载DOX的羧基化石墨烯溶液浓度为0.8-1.2mg/mL；硫化铜纳晶溶液浓度为0.8-1.2mg/mL。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述基底在负载DOX的羧基化石墨烯溶液中浸泡时间为1-2h；所述基底在硫化铜纳晶溶液中浸泡时间为1-2h。
9.一种负载DOX的纳米贴剂，其特征在于，所述纳米贴剂由权利要求1-8任一所述的制备方法制备得到。
10.根据权利要求9所述的纳米贴剂，其特征在于，所述纳米贴剂中负载DOX的羧基化石墨烯的固定量为0.39-2.12μg/mm2；硫化铜纳晶的负载量为0.47-2.43μg/mm2；负载DOX的羧基化石墨烯上DOX的含量为18.2％-23.4％。
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