[发明专利]一种复合玻碳电极及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种复合玻碳电极，包括玻碳电极基底和自组装于玻碳电极基底表面的二氧化硅纳米均孔薄膜，其特征在于，所述二氧化硅纳米均孔薄膜与玻碳电极基底之间具有还原氧化石墨烯层作为粘附层。

2.如权利要求1所述的复合玻碳电极的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将还原氧化石墨烯修饰在玻碳电极表面，得到还原氧化石墨烯/玻碳电极；

(2)利用电化学辅助自组装法在还原氧化石墨烯/玻碳电极表面制备二氧化硅纳米均孔薄膜，制得所述的复合玻碳电极。

3.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，利用滴涂、静电组装或者电沉积法将还原氧化石墨烯修饰在玻碳电极表面。

4.如权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于，所述的还原氧化石墨烯由氧化石墨烯经化学还原法或电还原法制备得到。

5.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述的电化学辅助自组装法包括：

a、将硅源和表面活性剂制成前躯体溶液，并调整pH为2.0～6.0；

b、以还原氧化石墨烯/玻碳电极为工作电极，浸入前躯体溶液中，并在工作电极上施加负电压，在还原氧化石墨烯/玻碳电极表面沉积孔道内含有表面活性剂胶束的二氧化硅纳米均孔薄膜，经老化后制得SM@VMSF/rGO/GCE电极；

c、将SM@VMSF/rGO/GCE电极置于盐酸-乙醇溶液中去除表面活性剂胶束，制得VMSF/rGO/GCE电极，即为所述的复合玻碳电极。

6.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述硅源以硅计与表面活性剂的摩尔比为1.5:1～6.0:1。

7.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述前驱体溶液中硅源以硅计的浓度为0.10mol/L～0.60mol/L。

8.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，步骤b中，施加负电压0.5-3.0V，电沉积时间为1-150s。

9.如权利要求1所述的复合玻碳电极在检测电化学有机小分子中的应用。

10.如权利要求9所述的应用，其特征在于，所述电化学有机小分子为对乙酰氨基酚、去甲肾上腺素、色氨酸、鸟嘌呤。