[发明专利]材料边缘位置检测装置在审
申请号: | 201810551246.6 | 申请日: | 2018-05-31 |
公开(公告)号: | CN108548501A | 公开(公告)日: | 2018-09-18 |
发明(设计)人: | 黄葆钧 | 申请(专利权)人: | 广州贝晓德传动配套有限公司 |
主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 周修文 |
地址: | 510000 广东省广州市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电路板 光学聚焦装置 基准电路 光发射器 光接收器 位置检测装置 材料边缘 电性连接 内装 装设 输出基准电压 电路板电性 变量电压 基准电压 间隔相对 检测通道 出光部 入光部 放大 输出 配合 | ||
本发明涉及一种材料边缘位置检测装置,包括第一基座,第一基座内装设有第一电路板、第一光学聚焦装置和光发射器,光发射器装设于第一电路板上并与第一光学聚焦装置的出光部相对,第一电路板上设置有第一基准电路,第一基准电路与光发射器电性连接、并用于输出基准电压;及第二基座,第二基座内装设有第二光学聚焦装置、光接收器和与第一电路板电性连接的第二电路板,光接收器装设于第二电路板上并与第二光学聚焦装置的入光部相对,第二电路板上设置有第二基准电路,第二基准电路与光接收器电性连接、并用于放大变量电压并输出至第一电路板从而与基准电压比较;其中,第一光学聚焦装置与第二光学聚焦装置间隔相对并配合形成检测通道。
技术领域
本发明涉及位置检测技术领域,特别是涉及一种材料边缘位置检测装置。
背景技术
在自动化加工领域中,由于原材料长时间移动过程中或者装配误差会致使位置发生偏移,而为了保证产品加工质量,许多加工设备都需要对加工原材料的位置进行精准定位。目前行业中采用较多的定位方式是单点红外对射检测或者多点阵列式对射检测。然而,单点红外对射检测通常只有开关量的输出,且检测范围较小,检测精度不高;而多点阵列式对射检测的使用成本高、设备结构复杂,输出数据量过大而致使运算速度偏低。
发明内容
基于此,有必要提供一种材料边缘位置检测装置,检测范围广、数据处理速度快且检测精度高,设备结构简单,使用成本低。
其技术方案如下:
一种材料边缘位置检测装置,包括:
第一基座,所述第一基座内装设有第一电路板、第一光学聚焦装置和光发射器,所述光发射器装设于所述第一电路板上并与所述第一光学聚焦装置的出光部相对,所述第一电路板上设置有第一基准电路,所述第一基准电路与所述光发射器电性连接、并用于输出基准电压;及
第二基座,所述第二基座内装设有第二光学聚焦装置、光接收器和与所述第一电路板电性连接的第二电路板,所述光接收器装设于所述第二电路板上并与所述第二光学聚焦装置的入光部相对,所述第二电路板上设置有第二基准电路,所述第二基准电路与所述光接收器电性连接、并用于放大变量电压并输出至所述第一电路板从而与所述基准电压比较;其中,所述第一光学聚焦装置与所述第二光学聚焦装置间隔相对并配合形成检测通道。
当应用上述材料边缘位置检测装置进行工作时,首先将第一基座和第二基座相对设置,以使第一光学聚焦装置与第二光学聚焦装置通过间隔相对而形成检测通道,该检测通道用于容纳待检测的产品并允许产品较大范围的移动。正常检测时,第一电路板上的第一基准电路获取工作指令后向光发射器输出一基准电压信号,进而驱使光发射器射出检测光线。检测光线经由第一光学聚焦装置折射后形成向第二光学聚焦装置行进的平行光线,由于产品位于检测通道内,因而会遮挡或吸收部分出射的平行光线,而未被遮挡的平行光线经由第二光学聚焦装置二次折射后传输至光接收器上,使得第二电路板及其第二基准电路可以获取到电压信号。当位于检测通道内的产品发生偏移,即产品遮挡或吸收的出射的平行光线量发生变化时,此时入射到光接收器上的光线量也相应发生改变,即导致第二基准电路获取的变量电压发生变化,最终经放大处理后输出该变量电压值至第一电路板上与基准电压作比较而完成检测作业。由于检测过程中产生的基准电压和变量电压均为纯模拟量信号,且是将光线量的变化值作为产品边缘位置改变的依据,使得数据处理速度更快、精度更高,同时产品能够在检测通道内较大范围移动,使得装置的检测范围更广。此外,本装置的组成结构更加精简,制造及使用成本低。
下面对本申请的技术方案作进一步地说明:
在其中一个实施例中,所述第一基准电路包括第一电位器、及与所述第一电位器电性连接的第一运算比较电路。
在其中一个实施例中,所述第一基准电路还包括与所述第一电位器和所述第一运算比较电路均电性连接的第二运算比较电路,所述第二基准电路包括运算放大电路,所述运算放大电路与所述第二运算比较电路电性连接。
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