[发明专利]具有超表面的钙钛矿天线及其制备方法

权利要求书

1.一种具有超表面的钙钛矿天线，其特征在于：包括从上至下层叠设置的钙钛矿层、金膜和基底，所述基底为二氧化硅琉璃片，所述钙钛矿天线为梯台状。

2.一种用于制备权利要求1所述的具有超表面的钙钛矿天线的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、在基底上镀金膜；

S2、在金膜上制备钙钛矿膜；

S3、制备图案掩模；

S4、在掩模上制备钙钛矿天线。

3.根据权利要求2所述的具有超表面的钙钛矿天线的制备方法，其特征在于：在步骤S1中，采用电子束蒸镀在二氧化硅琉璃片上镀金膜，在电子束蒸镀金膜之前，对二氧化硅琉璃片进行清洗。

4.根据权利要求2所述的具有超表面的钙钛矿天线的制备方法，其特征在于：在步骤S2中，采用化学生长法制备钙钛矿薄膜。

5.根据权利要求4所述的具有超表面的钙钛矿天线的制备方法，其特征在于：将滴有上清液的金膜置于匀胶台上，取溴化铅溶于二甲基甲酰胺中的饱和溶液上清液50μl，垂直滴加在经过亲水处理的金膜上，匀胶台转速设置在3000r/s，维持10s，在第7秒时在距离金膜8-10cm处，施加0.2mpa气压的空气，将匀好的溴化铅薄膜样品静置20s，随后放置在匀胶台上，取40μl甲基溴化铵溶液滴加在溴化铅薄膜上，转速设置为3000r/s，维持30s，将匀好的薄膜置于恒温加热台上，100℃下加热40min，制得钙钛矿膜。

6.根据权利要求2所述的具有超表面的钙钛矿天线的制备方法，其特征在于：在步骤S3中，采用电子束光刻制备图案掩模，按照电子束光刻流程，在得到的金膜上匀上光刻胶PMMA，用电子束光刻机进行曝光，将预先编写好的超表面天线阵列图案转移在光刻胶上，经过显影后光刻胶上具有天线阵列反结构图案。

7.根据权利要求6所述的具有超表面的钙钛矿天线的制备方法，其特征在于：在步骤S4中，在掩模上采用反应离子束刻蚀制备钙钛矿天线，显影结束后，将具有天线阵列反结构图案的样品，用反应离子束刻蚀法对样品进行刻蚀，在金膜上形成钙钛矿天线结构阵列，得到基于钙钛矿的异常反射超表面。