[发明专利]盘装置有效

专利信息
申请号: 201810076276.6 申请日: 2018-01-26
公开(公告)号: CN109427353B 公开(公告)日: 2020-04-14
发明(设计)人: 佐藤佑树 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
主分类号: G11B5/48 分类号: G11B5/48;G11B5/60
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 李智;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 装置
【权利要求书】:

1.一种盘装置,具备:

盘介质,该盘介质具有记录面;

靠近所述盘介质而配置的斜坡部件;和

上罩,该上罩具有:第1部分,该第1部分具有从所述盘介质的中心侧沿着所述记录面延伸的面;第2部分,该第2部分具有从所述第1部分的外周端部向相对于所述记录面远离的方向延伸的面;以及第3部分,该第3部分具有从所述第2部分所延伸的方向上的外周端部向所述盘介质的记录面的面方向、且向远离所述中心侧的方向延伸的面,

所述记录面具有:

第1区,该第1区能够被写入数据;和

第2区,该第2区设置于比所述第1区靠所述盘介质的外端侧,

所述上罩的第1部分的外周端部具有与所述盘介质的第1区以及第2区相对并且延伸至所述第2区的平坦面,

所述第2区的从所述盘介质的外端起的宽度,对应于在从与所述记录面垂直的方向透视的情况下所述斜坡部件与所述记录面重叠的位置,

所述第1部分,在隔着所述盘介质的中心而与所述斜坡部件相反的一侧的位置,在与所述平坦面相反的一侧的主面内的与所述第2部分的边界附近的区域还具有凹部。

2.根据权利要求1所述的盘装置,

所述第1部分具有延伸至所述第2区的外侧的所述平坦面。

3.根据权利要求1或2所述的盘装置,

所述第1部分在与所述第2部分的边界附近且与所述平坦面相反的一侧的主面还具有凹部。

4.根据权利要求1或2所述的盘装置,

所述第1部分具有:

第1区域,该第1区域具有第1厚度;和

第2区域,该第2区域配置于所述第1区域与所述第2部分之间,有比所述第1厚度薄的第2厚度。

5.根据权利要求1或2所述的盘装置,

还具备靠近所述盘介质而配置的扰流器,

所述第1部分,在隔着所述盘介质的中心而与所述扰流器相反的一侧的位置,在与所述平坦面相反的一侧的主面内的与所述第2部分的边界附近的区域还具有凹部。

6.根据权利要求1或2所述的盘装置,

还具备缓冲板,该缓冲板以上表面为与所述第3部分对应的高度的方式配置于所述第1部分中的与所述平坦面相反的一侧的主面,沿着所述主面延伸。

7.根据权利要求1或2所述的盘装置,

所述上罩具有基于板厚为0.5mm以上的板材的弯曲形状,

所述第1部分与所述第2部分之间的外弯R值为1mm以下,

所述外弯R值为弯曲形状的外侧的曲率半径。

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