[发明专利]底端防溅射靶

说明书

本发明涉及一种用于地面电推进试验等离子空间环境模拟设备中的防溅射系统技术领域，尤其是涉及一种底端防溅射靶。底端防溅射靶包括底端防溅射靶骨架主体和底端防溅射靶翅片组；底端防溅射靶骨架主体包括第三管、第四管和第二冷却管；第三管上连接有第二进液口，第四管上连接有第二出液口；第二冷却管有多个，多个第二冷却管沿垂直于长度方向间隔设置；多个第二冷却管通过第三管和第四管固定连接，第三管、第四管和多个第二冷却管之间相连通；底端防溅射靶翅片组与第二冷却管连接，以封堵相邻第二冷却管之间的空隙。本发明在于提供一种底端防溅射靶，解决现有技术中存在的防溅射靶对溅射产物及返流污染物的降低效果不佳的技术问题。

技术领域

本发明涉及一种用于地面电推进试验等离子空间环境模拟设备中的防溅射系统技术领域，尤其是涉及一种底端防溅射靶。

背景技术

电推进羽流主要由气体电离形成的等离子体组成，包含束流等离子体和电荷交换等离子体，会对航天器产生溅射污染效应，既包括带电粒子和中性粒子的沉积污染，又有高速带电粒子对航天器表面溅射刻蚀造成的溅射污染。

在地面电推进试验中，当高能束流离子和电荷交换离子碰撞于真空舱舱壁材料表面时，只要离子能量大于被碰撞材料的溅射阈值就会产生溅射污染，从而影响真空舱内粒子分布情况，严重影响实验结果。因此，需要对防溅射分子沉进行合理设计。

国际上一些适用于电推进的大型真空舱的防溅射分子沉结构的设计结构主要有平板式，异形式两种。但是现有的的防溅射分子沉结构的防溅射靶的结构简单，且在进行长时间地面电推进实验以及沉积污染物成分、质量分析时，溅射产物的空间分布及返流污染物都会对实验结果造成影响。

因此，本申请针对上述问题提供一种新的底端防溅射靶。

发明内容

本发明的目的在于提供一种底端防溅射靶，以解决现有技术中存在的防溅射靶对溅射产物及返流污染物的降低效果不佳的技术问题。

基于上述目的，本发明提供一种底端防溅射靶，包括底端防溅射靶骨架主体和底端防溅射靶翅片组；

所述底端防溅射靶骨架主体包括第三管、第四管和第二冷却管；

所述第三管上连接有第二进液口，所述第四管上连接有第二出液口；

所述第二冷却管有多个，且多个所述第二冷却管沿垂直于长度方向间隔设置；

多个所述第二冷却管通过所述第三管和所述第四管固定连接，且所述第三管、所述第四管和多个所述第二冷却管之间均相连通；

所述底端防溅射靶翅片组与所述第二冷却管连接，以封堵相邻所述第二冷却管之间的空隙。

在上述任一技术方案中，进一步地，本发明所述第三管的中心线和所述第四管的中心线均呈圆弧状；

所述第三管的中心线和所述第四管的中心线共圆，且所述第三管和所述第四管对称设置于所共圆的圆形沿径向方向的两端；

所述第二冷却管沿延伸方向的两端分别连通所述第三管和所述第四管。

在上述任一技术方案中，进一步地，本发明所述第二冷却管包括冷却直管；

所述冷却直管沿轴线方向的一端通过第一连接弯管连通所述第三管，另一端通过第二连接弯管连通所述第四管；

且多个所述第二冷却管的冷却直管沿所述第三管的延伸方向均匀设置。

在上述任一技术方案中，进一步地，本发明所述底端防溅射靶为立式结构；

所述第三管位于所述第四管的底端；

所述第二进液口位于所述第三管沿延伸方向的中间位置；和/或，所述第二出液口位于所述第四管沿延伸方向的中间位置。