[实用新型]一种应用于脑电实验的大型屏蔽室有效
申请号: | 201720875212.3 | 申请日: | 2017-07-19 |
公开(公告)号: | CN207340428U | 公开(公告)日: | 2018-05-08 |
发明(设计)人: | 罗静静;朱正仓;马玲玉;方振东;杨旭东 | 申请(专利权)人: | 宁波市智能制造产业研究院 |
主分类号: | H05K9/00 | 分类号: | H05K9/00 |
代理公司: | 宁波高新区永创智诚专利代理事务所(普通合伙) 33264 | 代理人: | 胡小永 |
地址: | 315400 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 应用于 实验 大型 屏蔽 | ||
本实用新型公开了一种应用于脑电实验的大型屏蔽室,涉及电磁屏蔽技术领域,包括屏蔽室墙壁、屏蔽室顶部、屏蔽室底部和屏蔽门,屏蔽室墙壁包括墙壁外层、铜网层和墙壁内层;屏蔽室顶部包括顶部外层和铜网层;屏蔽室底部包括绝缘底层、铜网层和地板层;屏蔽门包括门板外层和铜网层;在屏蔽室墙壁与屏蔽门连接处,屏蔽室墙壁与屏蔽门各自的铜网层都向外延伸,在屏蔽门关闭时,使得屏蔽室墙壁与屏蔽门接触处不存在空隙,铜网层通过粘接固定并且保持导电性;本实用新型能通过无缝链接铜网层形成全闭合式的屏蔽空间,实现屏蔽的效果,以及大型的框架结构所对应的铜网的排布,使得大型屏蔽室得以实现,同时设置通风设备,保证大型屏蔽室保持空气流通保证通风换气。
技术领域
本实用新型涉及电磁屏蔽技术领域,尤其是一种脑电实验屏蔽室。
背景技术
电磁屏蔽室是指利用某些技术手段将地球磁场、自然界、人文产生的电磁干扰进行屏蔽,营造一个没有电磁干扰的环境,可以从事各种科学研究活动;随着现代社会电子产品的快速发展,导致我们周围的电磁环境复杂,信号的电磁干扰严重,同时很多精密的仪器的运行需要在一个没有电磁干扰的环境中。尤其在生物磁学的研究领域,由于生物体的信号微弱,特别是脑电信号容易受到外界电磁场的干扰,因此,具有电磁屏蔽能力的脑电实验屏蔽室是研究生物体脑信号的重要基础设施。但现有的屏蔽室并不能很好的屏蔽电磁信号,在屏蔽门与墙壁的连接处容易造成密封的不彻底,导致外界干扰信号的进入,而且无法在保证屏蔽室内的密封性的同时,改善室内的空气质量,难以实现脑电屏蔽室的舒适性与密封性的共存。
如中国实用新型专利CN 204425893 U所公开的一种易装卸的电磁屏蔽室,涉及电磁波屏蔽材料领域的电磁屏蔽室结构技术领域,包括一副呈立方体的铝合金骨架,在铝合金骨架外周的六个面分别以夹持件连接涂覆有导电炭黑涂层的碳纤维织物;该实用新型专利的电磁屏蔽室不能很好的适用于大型屏蔽室的组建。
如中国发明专利CN 104244687 B所公开的一种电磁屏蔽室。该电磁屏蔽室包括:屏蔽壳体,该屏蔽壳体的内部围成一密闭的电磁屏蔽空间,其壁面自内而外包括:坡莫合金屏蔽夹层、支撑层、铝板屏蔽夹层,坡莫合金屏蔽夹层和铝板屏蔽夹层分别固定在支撑层的内侧和外侧;该发明专利的电磁屏蔽室结构复杂,并且不能在大型屏蔽室上应用该结构。
实用新型内容
一、要解决的技术问题
本实用新型的目的是针对现有技术所存在的上述缺陷,特提供一种应用于脑电实验的大型屏蔽室,解决了进行脑电实验时对大型屏蔽空间的需求问题,同时解决了屏蔽室内空气质量问题。
二、技术方案
为解决上述技术问题,本实用新型提供一种应用于脑电实验的大型屏蔽室,包括屏蔽室墙壁、屏蔽室顶部、屏蔽室底部和屏蔽门,屏蔽室墙壁包括墙壁外层、铜网层和墙壁内层;屏蔽室顶部包括顶部外层和铜网层;屏蔽室底部包括绝缘底层、铜网层和地板层;屏蔽门包括门板外层和铜网层;在屏蔽室墙壁与屏蔽门连接处,屏蔽室墙壁与屏蔽门各自的铜网层都向外延伸,在屏蔽门关闭时,使得屏蔽室墙壁与屏蔽门接触处不存在空隙,铜网层通过粘接固定并且保持导电性,该应用于脑电实验的大型屏蔽室,相较于一般使用的屏蔽室,其规格尺寸更大,通过特定屏蔽室墙壁结构做支撑,其有更大的使用空间。
其中,应用于脑电实验的大型屏蔽室还包括排风机和摄像装置,排风机安装在屏蔽室墙壁上,所安装处去除墙壁外层和墙壁内层;摄像装置安装在屏蔽室墙壁和屏蔽室顶部连接处,其中,排风机用于改善室内的空气质量,难以实现脑电屏蔽室的舒适性与密封性的共存,并且在排风机安装处仅保留铜网层,摄像装置通过有线与外部设备连通,不受屏蔽影响,用于将室内图像实时传输到外部;应用于脑电实验的大型屏蔽室还设有接地线。
其中,铜网层材质为紫铜,铜网层规格为40目,紫铜材质能有效加强屏蔽效果,同时40目的铜网规格在兼顾实用性的同时更经济。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波市智能制造产业研究院,未经宁波市智能制造产业研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720875212.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。