[实用新型]一种低应力蓝玻璃红外截止滤光片有效

专利信息
申请号: 201720677974.2 申请日: 2017-06-12
公开(公告)号: CN206920637U 公开(公告)日: 2018-01-23
发明(设计)人: 李挺;李平 申请(专利权)人: 美德瑞光电科技(上海)有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;G02B1/14
代理公司: 上海天翔知识产权代理有限公司31224 代理人: 吕伴
地址: 201822 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 应力 玻璃 红外 截止 滤光
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及滤光片技术领域,主要涉及一种低应力蓝玻璃红外截止滤光片。

背景技术

红外截止滤光片产品技术及市场上,成品不平整度是造成产品合格率低、产业化造价成本高的最大技术品质问题。目前技术中的红外截止滤光片一般是在70×70mm的中片的两侧面分别镀上AR膜和IRCUT膜,但是由于AR膜和IRCUT膜的应力差别较大,镜片会产生翘曲1-2mm,影响着滤光片整体质量。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种基底两侧面的应力基本接近,改善镜片的翘曲度,提高后道工序中的生产及格率的低应力蓝玻璃红外截止滤光片。

本实用新型所要解决的技术问题可以采用如下技术方案来实现:

一种低应力蓝玻璃红外截止滤光片,包括基板,在所述基板的上表面镀有由高折射率材料膜层和低折射率材料膜层交替形成的红外短波截止复合膜,在所述基板的下表面镀有由高折射率材料膜层和低折射率材料膜层交替形成的红外长波截止复合膜;

其特征在于,所述红外短波截止复合膜的中心波长和厚度与所述红外长波截止复合膜的中心波长和层数不同,所述红外短波截止复合膜、红外长波截止复合膜厚度相等均为2000-7000nm;

在所述基板与红外短波截止复合膜、红外长波截止复合膜之间分别设置有旋涂层,所述旋涂层包括有机物构成的底层和吸收层;

在所述红外短波截止复合膜、红外长波截止复合膜外表面设置有保护层。

在本实用新型的一个优选实施例中,所述红外短波截止复合膜的层数为15-20层,所述红外长波截止复合膜的层数为20-25层。

在本实用新型的一个优选实施例中,所述高折射率材料膜层是由二氧化钛、五氧化三肽、氧化锆、五氧化二钽、五氧化二铌、H4中的一种或一种以上组成,所述低折射率材料膜层是由二氧化硅、氟化镁、三氧化二铝中的一种或一种以上组成。

本实用新型的有益效果是:一种低应力蓝玻璃红外截止滤光片,采用双面镀膜技术利用两个膜堆中心波长不同、膜层数不同来实现总光学厚度相当,引入的应力相接近,从而有效防止了超薄蓝玻璃基板由于膜层应力而引起翘曲,变形;设置有机物构成的旋涂层以及保护层,滤光片的结构稳定,各膜层之间固度高。

附图说明

图1是本实用新型一种低应力蓝玻璃红外截止滤光片的结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本实用新型。

参见图1,图中给出的是一种低应力蓝玻璃红外截止滤光片,包括基板100,基板100为超薄蓝玻璃基板,在基板100的上表面镀有由高折射率材料膜层和低折射率材料膜层交替形成的红外短波截止复合膜200,在基板100的下表面镀有由高折射率材料膜层和低折射率材料膜层交替形成的红外长波截止复合膜300。高折射率材料膜层是由二氧化钛、五氧化三肽、氧化锆、五氧化二钽、五氧化二铌、H4中的一种或一种以上组成;低折射率材料膜层是由二氧化硅、氟化镁、三氧化二铝中的一种或一种以上组成,优选的,低折射率材料膜层是由氟化镁、三氧化二铝中两种材料组成。

红外短波截止复合膜200的中心波长和厚度与红外长波截止复合膜300的中心波长和层数不同,红外短波截止复合膜200的层数为15-20层,红外长波截止复合膜300的层数为20-25层;红外短波截止复合膜200、红外长波截止复合膜300厚度相等均为2000-7000nm。采用双面镀膜技术利用两个膜堆中心波长不同、膜层数不同来实现总光学厚度相当,引入的应力相接近,从而有效防止了超薄蓝玻璃基板100由于膜层应力而引起翘曲,变形。

在基板100与红外短波截止复合膜200、红外长波截止复合膜300之间分别设置有旋涂层400,旋涂层400包括有机物构成的底层410和吸收层420;旋涂层的设置使得滤光片的结构稳定,各膜层之间固度高。在红外短波截止复合膜200、红外长波截止复合膜300外表面设置有保护层500,保护层500由二氧化硅材料制成。在红外短波截止复合膜200、红外长波截止复合膜300端面还各拼接有一红外带通滤光片,红外短波截止复合膜200、红外长波截止复合膜300与红外带通滤光片的接缝处设有遮光膜。

本实用新型还采用真空度控制技术,通过控制真空度,让膜料蒸气分子与剩余气体分子碰撞几率减少,蒸气分子动能增大,冲破基片上的气体吸附层,从而得到牢固纯洁度高的镀膜质量。

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