[实用新型]易清洁反应釜有效
申请号: | 201720615404.0 | 申请日: | 2017-05-27 |
公开(公告)号: | CN206951187U | 公开(公告)日: | 2018-02-02 |
发明(设计)人: | 周立强 | 申请(专利权)人: | 常州碳酸钙有限公司 |
主分类号: | B01J19/18 | 分类号: | B01J19/18 |
代理公司: | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙)11489 | 代理人: | 曹军 |
地址: | 213000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洁 反应 | ||
1.一种易清洁反应釜,包括釜体和釜盖,所述釜盖密封设置在所述釜体的上方,所述釜盖上开设有进料口,所述釜体的底部开设有出料口,所述釜体内部设置有搅拌轴,所述搅拌轴的一端穿出所述釜盖并与电机连接,其特征在于:所述釜体内部设置有清洁环,所述清洁环的周面与所述釜体的内壁贴合,所述清洁环上连接有驱动装置,所述驱动装置驱动所述清洁环升降以清洁所述釜体的内壁。
2.如权利要求1所述的易清洁反应釜,其特征在于:所述驱动装置为气缸。
3.如权利要求2所述的易清洁反应釜,其特征在于:所述气缸设置在所述釜盖的上方,所述气缸的活塞杆穿入所述釜盖并与所述清洁环连接。
4.如权利要求3所述的易清洁反应釜,其特征在于:所述气缸的数量为四个,所述气缸的活塞杆对称固定在所述清洁环上。
5.如权利要求4所述的易清洁反应釜,其特征在于:所述搅拌轴上设置有第一搅拌盘和第二搅拌盘,所述第二搅拌盘设置在所述第一搅拌盘的下方且所述第一搅拌盘与所述第二搅拌盘之间具有间隙。
6.如权利要求5所述的易清洁反应釜,其特征在于:所述第一搅拌盘和所述第二搅拌盘上开设有漏孔,所述漏孔均匀开设在所述第一搅拌盘和所述第二搅拌盘上。
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