[实用新型]一种适合于多孔基材的涂布装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种基材的涂布装置，特别是适合于防止多孔基材涂布漏料且保证涂布均匀的涂布装置。

背景技术

涂布是锂离子电池或者是锂离子电容器的正负极片及隔离膜生产过程中必不可少的一道工序，涂布工艺的好坏将直接影响电池或者电容的容量以及一致性等性能。涂布的过程就是将制作好的糊状粘稠浆料均匀的，连续或间断的涂覆在基材(铜箔或铝箔)的正反面。现有涂布方法是将涂布头设置在基材的上方或侧方，即浆料从涂布在基材的上面，或者同时将涂布头设置在箔材的侧方和下方，上下两面同时涂布。这对于普通的无孔基材而言不会出现工艺缺陷，但对于多孔基材，由于浆料的重力作用，浆料极易从基材的孔隙中渗漏，这不但影响基材的涂布工艺，造成基材涂布不均匀，而且渗漏的浆料由于未及时烘干而玷污涂布辊，无法正常生产。此外，传统涂布工艺中，涂布头设置在烘箱的头部位置处，如专利文献CN 103567116 B和CN 102744183 A所述，这种涂布方式存在一定的缺陷。由于烘箱内较大的空气流速，基材在行进过程中会出现波动，进而造成基材涂布不均匀，从而影响产品一致性。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是，提供一种适合于多孔基材的涂布装置，使用该装置在多孔基材上进行涂布避免多孔基材涂布不均匀以及漏料污染涂布辊的缺陷。

为解决上述技术问题，本实用新型公开了一种适合于多孔基材的涂布装置，包括基材，沿基材行进方向依次布置的放卷机辊、涂布辊、烘箱、牵引辊和收卷机辊，以及对基材进行涂布的涂布头，所述涂布头设置于涂布辊下方。

进一步地，所述基材与涂布辊的切点为A，所述涂布头的顶部为喷涂头B，喷涂头B与切点A在基材行进方向上的水平距离L为0.5-5mm。涂布头在基材行进方向上越靠近涂布辊切点，则涂布作业时，基材波动越小，涂布均一性越好。

进一步地，所述涂布头在涂布作业时喷涂头B到基材的垂直间隙H为0.2-1mm。涂布工况确定后，涂布头与涂布辊之间的间隙恒定，以保证涂布基材的均匀性。

进一步地，所述基材为铜箔，铝箔，镍箔，钢网，隔膜中的任意一种。

进一步地，所述基材包括多孔基材，其孔径为0-500μm。

进一步地，所述放卷机辊有两个或两个以上，用于将基材卷出，增加放卷机辊可以保证基材在行进方向的平整度，使涂覆更为均匀。

进一步地，所述涂布装置还包括离型辊，所述离型辊设置于基材的上方，且位于涂布辊与烘箱之间。增加离型辊可以减小因烘箱附近快速的空气流动而导致基材较大的波动。

进一步地，所述基材沿烘箱水平方向通过，且烘箱从上下两个方向对基材进行干燥。

进一步地，所述基材位于烘箱前三分之二处沿水平方向通过，位于后三分之一处自水平方向向上倾斜，直至基材完全通过烘箱，且烘箱从上下两个方向对基材进行干燥。

进一步地，所述烘箱三分之二处起设置支撑辊，且支撑辊置于基材的上方，用于支撑基材沿牵引方向行进。

进一步地，所述牵引辊至少有两个，牵引辊作为基材的牵引系统，将基材沿着收卷机辊卷绕方向行进。

本实用新型的有益效果：由于涂布头位于涂布辊的下方，浆料通过涂布头由下而上进行涂布，可以避免浆料漏料而玷污涂布辊的缺陷，保证基材涂布均匀；其次，由于涂布位置处在涂布辊下方，所以基材在行进过程中波动较小，从而保证涂布的均匀性，进而提高制备电极的电化学性能。

附图说明

图1为第一种实施方式的涂布装置结构示意图；

图2为第二种实施方式的涂布装置结构示意图；

图3为第三种实施方式的涂布装置结构示意图；

图4为涂布头与涂布辊装置的放大图；

图中附图标记，1-放卷机辊；2-基材；3-涂布辊；4-涂布头；5-烘箱；6-牵引辊；7-收卷机辊；8-支撑辊；9-离型辊。

具体实施方式

下面结合实施例，更具体地阐述本实用新型的内容。本实用新型的实施并不限于下面的实施例，对本实用新型所做的任何形式上的变通或改变都应在本实用新型的保护范围内。

实施例1：