[发明专利]一种改善水生植物湿地土壤酸性的基质在审

专利信息
申请号: 201711457044.7 申请日: 2017-12-28
公开(公告)号: CN108130096A 公开(公告)日: 2018-06-08
发明(设计)人: 李运国;周志宁;张小燕;王磊;陈元君;何凤翔;李增添 申请(专利权)人: 铁汉山艺环境建设有限公司
主分类号: C09K17/40 分类号: C09K17/40;C09K109/00
代理公司: 深圳市远航专利商标事务所(普通合伙) 44276 代理人: 田志远;袁浩华
地址: 518000 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 水生植物 湿地土壤 基质 酸碱度 添加剂A 添加剂B 添加剂 湿地水生植物 土壤改良剂 石灰石 碱性基质 碱性土壤 调理剂 磷矿粉 膨润土 酸碱性 重量份 土壤 菌剂 酸碱 南方 生长 保证
【说明书】:

本发明提供了一种改善水生植物湿地土壤酸性的基质,其创新点在于:包括以下重量份的组分:包括土壤改良剂、添加剂A、添加剂B和添加剂C,所述添加剂A由磷矿粉2‑6份、石灰石5‑8份、碱性基质28‑136份和膨润土4‑8份组成;所述添加剂B为土壤酸碱调理剂;所述添加剂C为碱性土壤菌剂。采用本发明的改善水生植物湿地土壤酸性的基质,能够保证土壤的酸碱度维持在5.0‑7.5之间,且酸碱度保持较为稳定的状态,酸碱性差值较小,适合南方湿地水生植物的长期生长。

技术领域

本发明涉及土壤酸性改良技术领域,尤其涉及改善水生植物湿地土壤酸性的基质。

背景技术

南方湿地土壤酸性太强,有些无法种植植物的情况非常普遍,例如中国专利200810058603.1公开了一种基质改善酸性土壤的方法,属土壤改良技术领域。该方法由基质制作、pH值测量、基质用量的确定、基质施入时间、土壤湿度控制、基质施入操作、种植前土壤准备七个步骤组成。其基质是适宜热带地区种植、生长迅速产量高,可持续利用的王草,经过晒干粉碎,用大地旺活菌原液发酵等工艺流程研制而成。通过确定中和1m2酸性土壤需要的基质用量,计算所需改良土地的基质总量。基质分2次以上与酸性土壤定量混合。本发明方法能有效改变土壤的酸碱度、物理性状及提高土壤肥力;能直接把土壤的pH值从4-6提高到6-8。虽然上述技术方案中,通过7大步骤使得土壤的pH值从4-6提高到6-8,在一定程度上能够改善湿地土壤的酸性,但是该PH值的可调范围太大,酸性与碱性之间的跨度比较大,容易影响湿地中水生植物的生长。

此外,针对湿地土壤中的土壤修复,中国专利201610171376.8公开了将湿地植物栽植于污染土壤中,1个生长季后收获富集重金属的植物。通过原位浸提土壤中的重金属,用水生植物吸收富集浸提液中的重金属,解决了土壤浸提淋出液的后处理问题以及土壤浸提后土壤氮、磷和钾等营养成分会流失的问题。该技术方案中,主要集中处理的是湿度植物对重金属富集的措施,对于湿度植物中土壤酸碱度研究,以及如何改善土壤酸性使其更加适应南方湿度水生植物的生长,还有待研究。

发明内容

为克服现有技术中存在的南方湿地土壤酸性太强,有些无法种植植物的情况,且PH值的可调范围太大,酸性与碱性之间的跨度比较大,容易影响湿地中水生植物的生长等问题,本发明提供了一种改善水生植物湿地土壤酸性的基质。

本发明公开的技术方案为:一种改善水生植物湿地土壤酸性的基质,其创新点在于:包括以下重量份的组分:包括土壤改良剂、添加剂A、添加剂B和添加剂C,所述添加剂A由磷矿粉2-6份、石灰石5-8份、碱性基质28-136份和膨润土4-8份组成;所述添加剂B为土壤酸碱调理剂;所述添加剂C为碱性土壤菌剂。

在一些实施方式中,所述土壤改良剂包括有机物和有机物改良剂,所述有机物为碳化烤烟秸秆或碳化玉米秸秆或废弃烟味燃灰中的任意一种或三种混合物;所述有机物改良剂包括黄腐酸、磷酸或木炭粉中的至少任意两种组成的物质再与发酵酶混合的混合物;所述有机物与有机物改良剂的加入比例为5~8:1。

在一些实施方式中,所述有机物改良剂包括黄腐酸和磷酸组成的物质与发酵酶混合的混合物,混合物比例为1:1;其中,黄腐酸和磷酸组成的物质中两者的比例为1~3:1。

在一些实施方式中,所述有机物改良剂包括磷酸和木炭粉组成的物质与发酵酶混合的混合物,混合物比例为1:1;其中,磷酸和木炭粉组成的物质中两者的比例为2~7:1。

在一些实施方式中,所述有机物改良剂包括黄腐酸和木炭粉组成的物质与发酵酶混合的混合物,混合物比例为1:1;其中,黄腐酸和木炭粉组成的物质中两者的比例为4~5:1。

在一些实施方式中,碱性基质包括碱性植物灰30-35重量份、磷酸钾22-25重量份和缓释钙镁磷肥18-20重量份。

在一些实施方式中,所述缓释钙镁磷肥包括石粉膨化的多孔微珠和嵌入多孔微珠中的钙肥、磷肥以及镁肥的混合物;所述多孔微珠的孔隙为0.1~8nm。

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