[发明专利]照明装置和投影仪有效

专利信息
申请号: 201711403663.8 申请日: 2017-12-22
公开(公告)号: CN108363266B 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 秋山光一 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 邓毅;李庆泽
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 照明 装置 投影仪
【说明书】:

照明装置和投影仪。本发明提供一种能够以简易的结构使光强度分布均匀的照明装置。此外,提供具备所述照明装置的投影仪。照明装置具备:光源装置,其射出光;聚光光学系统,光入射到该聚光光学系统;以及扩散元件,从聚光光学系统射出的聚光光束入射到该扩散元件。光包括:占据包含聚光光学系统的光轴的区域的第1光束;以及占据第1光束的外侧区域的第2光束。基于聚光光学系统的第1光束在光轴方向上的会聚位置与基于聚光光学系统的第2光束在光轴方向上的会聚位置不同。

技术领域

本发明涉及照明装置和投影仪。

背景技术

近年来,存在如下的技术:在投影仪使用的照明装置中,使用两片的多透镜阵列和聚光透镜,使得从由多个半导体激光器构成的激光阵列射出的激光入射到荧光体层上而生成荧光(例如参照下述专利文献1)。从半导体激光器射出的激光的光强度分布具有高斯分布,中心部的光强度比周边部高。该情况下,可能荧光体层因热劣化,或者将激励光向荧光转换的效率降低。因此,在专利文献1中,使用两片的多透镜阵列和聚光透镜来使荧光体层上的激光(激励光)的光强度分布均匀,由此,使光强度的峰值降低。

专利文献1:日本特开2014-138148号公报

发明内容

然而,在上述现有技术中,存在部件个数增多从而装置大型化、成本提高的问题。因此,期望提供能够以简易的结构降低光强度的峰值的新技术。

本发明是鉴于这样的情况而完成的,目的之一在于提供能够以简易的结构降低光强度的峰值的照明装置。此外,另一目的在于提供具备所述照明装置的投影仪。

根据本发明的第一方面,提供一种照明装置,其具备:光源装置,其射出光;聚光光学系统,所述光入射到该聚光光学系统;以及扩散元件,从所述聚光光学系统射出的聚光光束入射到该扩散元件,所述光包括:占据包含所述聚光光学系统的光轴的区域的第1光束;以及占据该第1光束的外侧的区域的第2光束,基于所述聚光光学系统的所述第1光束在所述光轴的方向上的会聚位置与基于所述聚光光学系统的所述第2光束在所述光轴的方向上的会聚位置不同。

在第一方面的照明装置中,相比于在光轴的方向上第1光束的会聚位置与第2光束的会聚位置相同的情况,由第1光束及第2光束在扩散元件上形成的光强度分布的峰值低。

此外,通过将中央部分的光量的一部分分配到周边部分,能够提高周边部分的光量。

在上述第一方面中,优选的是,所述聚光光学系统具备:选择性地接收所述第1光束的第1透镜面;以及第2透镜面,至少所述第2光束入射到该第2透镜面。

根据该结构,通过使用第1透镜面和第2透镜面,能够降低光强度分布的峰值。

在上述第一方面,优选的是,所述聚光光学系统具备透镜,所述透镜具有所述第1透镜面和所述第2透镜面,所述第1光束通过所述第1透镜面进行会聚,所述第2光束通过所述第2透镜面进行会聚。

根据该结构,能够使用一个透镜降低光强度分布的峰值。

或者,在上述第一方面,优选的是,所述聚光光学系统具备:具有所述第1透镜面的第1透镜;以及具有所述第2透镜面的第2透镜,所述第1透镜设置在所述光源装置与所述扩散元件之间的光路中。

根据该结构,通过使用第1透镜,能够独立于第2光束来调整第1光束的会聚位置。

在上述第一方面,优选的是,所述第1透镜面与所述第2透镜面中的至少一个具有由非球面形成的区域。

根据该结构,通过使用非球面透镜,容易控制会聚位置。

所述非球面也可以是畸变面。

根据该结构,能够调整第1光束及第2光束形成在扩散元件上的光斑的形状。

或者,所述非球面也可以是自由曲面。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社,未经精工爱普生株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711403663.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top