[发明专利]用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置

说明书

一种用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置，适用于处理来自湿式蚀刻清洗台的排气中的醇类，并包含入口部及过滤部。所述入口部做为所述来自湿式蚀刻清洗台的排气的入口。所述过滤部衔接于所述入口部的出口，并包括化学滤材。所述化学滤材用于吸附来自所述入口部的排气中的醇类，例如异丙醇(IPA)等。所述化学滤材为经改质过后的活性碳。

技术领域

本发明涉及一种洗涤装置，特别是涉及一种用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置。

背景技术

湿式蚀刻清洗台广泛用于半导体等制程。以半导体湿式蚀刻清洗台为例，其会产生包括例如异丙醇(IPA)等有机溶剂气体的排气。这些含有异丙醇气体的排气必须以洗涤装置加以洗涤去除，以避免造成空污问题。

一般洗涤装置是利用至少两个水洗部中的喷头喷洒水液，而将排气中的异丙醇气体洗涤去除。然而，被水洗去除的异丙醇落至贮水槽中，再排至环境中，反而造成水污染问题。因此，有必要寻求解决方案。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置，适用于处理来自湿式蚀刻清洗台的排气中的醇类，并包含入口部，所述入口部做为所述来自湿式蚀刻清洗台的排气的入口。所述用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置还包含过滤部。所述过滤部衔接于所述入口部的出口，并包括化学滤材。所述化学滤材用于吸附来自所述入口部的排气中的醇类，且为经改质过后的活性碳

本发明用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置，所述化学滤材的形状为矩形体，且所述过滤部还包括用于铅直地安装所述化学滤材的安装架。

本发明用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置，还包含位于所述过滤部下游处且包括至少一个喷头的水洗部，所述喷头是利用水液洗涤来自所述过滤部的排气中的残余醇类。

本发明用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置，所述水洗部包括数个喷头。

本发明用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置，还包含位于所述水洗部下方并用于盛接所述喷头喷出的水液的水槽。

本发明用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置，还包含位于所述水洗部下游处并用于对来自所述水洗部的干净气体进行除雾的除雾器。

本发明用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置，还包含位于所述除雾器下游处的风车，所述风车用于将来自所述除雾器的干净气体排放至大气中。

本发明用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置，还包含用于安装所述入口部、所述过滤部、所述水洗部、所述除雾器与所述风车的壳体。

本发明用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置，所述入口部包括数条入口管。

本发明的有益效果在于：

通過使用过滤部的化学滤材，可将来自湿式蚀刻清洗台的排气中的绝大部分醇类予以吸附过滤，因而可避免水资源被多量的醇类严重污染的环保问题。

附图说明

图1是立体图，说明本发明用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置的实施例；及

图2是装置配置示意图，说明该实施例。

具体实施方式

参阅图1～2，本发明用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置的实施例，适用于处理来自湿式蚀刻清洗台(图未示)的排气9中的醇类，例如异丙醇(IPA)等。在本实施例中，该用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置包含一壳体1，以及安装于该壳体1的一入口部2、一过滤部3、一水洗部4、一除雾器5、一风车6与一水槽7。需特别提出的是，在本实施例的变化例中，不限于仅使用一个水洗部4，而是可取决于机台的大小规模而也可使用数个水洗部4。