[发明专利]磁共振成像系统及其低温保持器结构

权利要求书

1.一种低温保持器结构，其特征在于，包括：

罐体，所述罐体的内部设置有空腔，所述空腔用于放置冷却剂以及浸泡于冷却剂中的超导线圈，所述超导线圈与所述罐体同轴设置，且所述超导线圈用于产生磁共振成像所需的主磁场；及

冷头部件，位于所述罐体的侧面，所述冷头部件用于向所述空腔制冷将所述超导线圈保持在低温超导状态，所述冷头部件的底部位置不低于所述空腔的上端面；所述冷头部件包括第一级冷头及第二级冷头，所述第一级冷头位于所述第二级冷头的下方，所述第二级冷头的外表面具有上多个沿所述第二级冷头径向方向延伸的凸起，所述凸起为散热翅片，所述散热翅片在靠近所述第一级冷头一端的厚度大于所述散热翅片在远离所述第一级冷头一端的厚度；

所述冷头部件的顶部朝向所述罐体端部的方向倾斜，且所述冷头部件在与所述超导线圈轴线平行的竖直面内倾斜。

2.根据权利要求1所述的低温保持器结构，其特征在于，所述冷头部件的顶部朝向靠近或远离所述超导线圈轴线的方向倾斜。

3.根据权利要求1所述的低温保持器结构，其特征在于，所述冷头部件的轴线与所述竖直方向之间的夹角范围为20°～45°。

4.根据权利要求3所述的低温保持器结构，其特征在于，所述第二级冷头呈圆台形设置。

5.根据权利要求4所述的低温保持器结构，其特征在于，所述第二级冷头在靠近所述第一级冷头的一端的直径大于所述第二级冷头在远离所述第一级冷头一端的直径。

6.根据权利要求1至5任一项所述的低温保持器结构，其特征在于，相邻的两个所述凸起间形成沟壑。

7.根据权利要求1至5任一项所述的低温保持器结构，其特征在于，所述散热翅片由高热导率材料制成。

8.根据权利要求1至5任一项所述的低温保持器结构，其特征在于，所述第二级冷头的外表面及所述凸起的外表面采用镀层或抛光处理。

9.根据权利要求1所述的低温保持器结构，其特征在于，所述低温保持器结构还包括防辐射漏热屏、真空隔层及导热带，所述防辐射漏热屏与所述真空隔层依次设置于所述罐体的外侧；所述导热带设置于所述真空隔层中，并连接所述防辐射漏热屏与所述冷头部件。

10.一种磁共振成像系统，其特征在于，包括超导线圈及如权利要求1至9任一项所述的低温保持器结构，所述超导线圈安装于所述低温保持器 结构的罐体的空腔中。