[发明专利]一种光学膜及触控屏及光学膜的制备方法

说明书

本发明提供的一种光学膜及触控屏及光学膜的制备方法，光学膜的第一硬化层中折射率从远离所述透明基材层的那一端向靠近所述透明基材层的一端递减，这一技术方案有效避免了第一硬化层中折射率的断崖式差异而产生的不利于蚀刻纹可见性降低的现象，而折射率递减分布设置使其产生极佳的抗反射效果，消除了后期ITO蚀刻而产生的蚀刻纹的可见性。

技术领域：

本发明涉及光学膜领域，具体涉及一种光学膜及触控屏及光学膜的制备方法。

技术背景：

现有技术TWI527063B在一种导电透明层合体。将该导电透明层合体的透明导电层图案化后制得一图案化的导电透明层合体，由该图案化的导电透明层合体的图案部射出的反射光的反射色及反射率与由非图案部射出的反射光的反射色及反射率的差异小，应用至触控面板时，可使得使用者在观看时不易看到透明导电层图案化的痕迹，其通过一透明基板；一第一光学调整层，设置于该透明基板上，该第一光学调整层的折射率范围为1.65至1.83，物理厚度范围为25nm至35nm；一第二光学调整层，设置于该第一光学调整层上，该第二光学调整层的折射率范围为1.33至1.52，物理厚度范围为20nm至40nm；一透明导电层，设置于该第二光学调整层上，该技术基材层，第一光学调整层以及光学调整层都有明确的分层现象和明确的厚度，因此由于各层之间有着明显的界限，各层之间阶梯式的折射率差异过大无法避免不利于蚀刻纹消失且干涉纹出现。

发明具体内容：

本发明的目的一方面，提供一种光学膜及触控屏及光学膜的制备方法，通过折射率的合理分布产生的干涉，有效降低了后期ITO蚀刻产生的蚀刻纹的可见性，一方面，提供一种触控屏，另一方面提供一种光学膜的制备方法。

为实现上述目的，本发明的技术方案为：

一种光学膜，所述光学膜包含透明基材层、第一硬化层，所述透明基材层包含第一光学面和第二光学面，所述第一硬化层设置在所述透明基材层的第一光学面上，其特征在于，所述第一硬化层的折射率从远离所述透明基材层的那一端向靠近所述透明基材层的一端递减，所述递减一词含义是指硬化层中折射率可以是缓和的阶梯式递减，可以是相互渗透的缓慢递减，或者在深度方向呈现连续性变化。这一技术方案有效避免第一硬化层中折射率的断崖式差异不利于蚀刻纹的消除，而折射率递减分布设置其目的是消除后期ITO蚀刻而产生的蚀刻纹的可见性。

进一步地，所述第一硬化层不存在明显分层的现象，所述不分层现象是指两个层面重叠，但实际上不存在界面；根据折射率判断为在两者的面上不存在界面；横截面(该横截面为液氮冷冻切片)在扫描电镜下观察不到界面，或者只能勉强看到不清晰的界面。所述不分层现象可以是高低折射率材料之间相互渗透而自发产生的一个理论上存在的一个过渡层，也可以是折射率缓和而连续性分布，也可以是两种折射率无规律的掺杂分布。

进一步地，所述第一硬化层包含10-100nm范围的纳米粒子，所述纳米粒子的作用是用于调整硬化层的折射率。

进一步地，所述纳米粒子选自：二氧化硅、氧化铟、氧化锡、氧化锌、氧化钛、氧化锆、氧化铝、氧化锑中的一种或多种。

进一步地，所述第一硬化层包含硬化层M和硬化层N。

进一步地，所述透明基材层的第二光学面上设置有防粘连硬化层。

进一步地，所述透明基材层的第二光学面上设置有与第一光学面上镜像对称的第二硬化层。

进一步地，所述第一硬化层与透明基材层的第一光学面之间存在明显的分层。

进一步地，所述第一硬化层与透明基材层的第一光学面之间不存在明显的分层。

进一步地，所述硬化层M的折射率范围为1.45-1.70，所述硬化层N的折射率范围为1.50-2.0。

进一步地，所述硬化层M使用含有聚氨酯(甲基)丙烯酸酯组合物。