[发明专利]一种上转换荧光成像系统及上转换荧光的成像方法在审

专利信息
申请号: 201711174200.9 申请日: 2017-11-22
公开(公告)号: CN109813687A 公开(公告)日: 2019-05-28
发明(设计)人: 吴爱国;俞樟森;杨方 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 罗满
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 上转换 入射光 波长 荧光成像系统 出射光 荧光 成像 穿透 红外光 荧光纳米颗粒 光源发射 近红外区 荧光成像 自发荧光 灵敏度 波段 光源 激发
【权利要求书】:

1.一种上转换荧光成像系统,其特征在于,所述上转换荧光成像系统包括光源、样品台、光信号接收器和处理器;

所述光源发射的入射光的波长范围为:1000nm至2500nm,包括端点值;

所述样品台用于放置经过上转换荧光纳米颗粒标记的样品,所述样品用于吸收所述入射光并发射出射光;

所述光信号接收器连接所述处理器,所述光信号接收器用于接收所述出射光,并将所述出射光转换成图像数据,以发送至所述处理器;

所述处理器用于根据所述图像数据生成荧光图像。

2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述上转换荧光纳米颗粒为AReF4(Re3+,n%)@mAReF4或Re2O3(Re3+,n%);其中,A包括Li、Na、K;Re包括Sc、Y、La、Gd、Lu;Re3+包括Pr3+、Nd3+、Sm3+、Dy3+、Ho3+、Er3+、Tm3+;所述n的取值范围为:0至100,包括右端点值;所述m的取值范围为:0至30,包括端点值。

3.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述光源为激光光源,所述激光光源与所述样品台之间设置有激光光束调节透镜组。

4.根据权利要求3所述的系统,其特征在于,所述激光光束调节透镜组包括沿光轴依次分布的准直透镜、扩束透镜和整形透镜。

5.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述样品台与所述光信号接收器之间设置有带通滤光片,所述带通滤光片用于选取预先设定波长的单色出射光。

6.根据权利要求5所述的系统,其特征在于,所述带通滤光片与所述光信号接收器之间设置有荧光光束调节透镜组。

7.根据权利要求6所述的系统,其特征在于,所述荧光光束调节透镜组包括沿光轴依次分布的准直透镜、扩束透镜和整形透镜。

8.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述光信号接收器为CCD检测器。

9.一种上转换荧光的成像方法,其特征在于,所述方法包括:

光源发射入射光照射设置在样品台的样品,其中,所述入射光的波长范围为:1000nm至2500nm,包括端点值,所述样品为经过上转换荧光纳米颗粒标记的样品;

所述样品吸收所述入射光,并发射出射光;

光信号接收器接收所述出射光,并将所述出射光转换成图像数据,以发送至处理器;

所述处理器根据所述图像数据生成荧光图像。

10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述上转换荧光纳米颗粒为AReF4(Re3+,n%)@mAReF4或Re2O3(Re3+,n%);其中,A包括Li、Na、K;Re包括Sc、Y、La、Gd、Lu;Re3+包括Pr3+、Nd3+、Sm3+、Dy3+、Ho3+、Er3+、Tm3+;所述n的取值范围为:0至100,包括右端点值;所述m的取值范围为:0至30,包括端点值。

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