[发明专利]一种新型焖烧锅

权利要求书

1.一种新型焖烧锅，其特征在于包括锅体（1）及真空锅盖（2），锅体（1）的锅底下表面设有聚热机构，锅体（1）的锅底上表面设有用于增加食材与锅底接触面积的导热机构，真空锅盖（2）上设有兼具保温作用的排气装置。

2.按照权利要求1所述的一种新型焖烧锅，其特征在于所述聚热机构包括布设于锅底下表面上的多个上宽下窄的锥形吸热件（3），吸热件（3）为中空结构且上下开口，吸热件（3）的顶部焊接于锅底下表面上。

3.按照权利要求1所述的一种新型焖烧锅，其特征在于所述导热机构包括与锅底上表面为一体结构的加热导热层（4），导热层（4）上开设有用于增加与食材接触面积的导热凹槽（5）。

4.按照权利要求3所述的一种新型焖烧锅，其特征在于所述导热凹槽（5）呈漩涡状，导热凹槽（5）的槽宽为2-4cm，槽高为0.5-0.6cm。

5.按照权利要求3或4所述的一种新型焖烧锅，其特征在于所述锅底上表面设有碗状集液槽（14），集液槽（14）与导热凹槽（5）相交叉从导热凹槽（5）的漩涡状圆心处一直延伸至锅边，集液槽（14）的槽高低于导热凹槽（5）的槽高。

6.按照权利要求1所述的一种新型焖烧锅，其特征在于所述真空锅盖（2）为内部抽真空的双层结构，真空锅盖（2）的边缘安装有硅胶密封圈（6）。

7.按照权利要求6所述的一种新型焖烧锅，其特征在于所述排气装置包括开设于真空锅盖（2）上的排气孔（7），排气孔（7）上插装有可上下移动的活塞（8），活塞（8）包括插于排气孔（7）内的活塞杆（9）及位于排气孔外部的活塞头（10），活塞杆（9）的高度小于排气罩（12）的高度，活塞（8）的外部罩设有排气罩（12），排气罩（12）安装于真空锅盖（2）上。

8.按照权利要求7所述的一种新型焖烧锅，其特征在于所述排气罩（12）为双层结构，排气罩（12）的顶部设有出气孔（11），排气罩（12）的内壁上开设有环状进气口（13），进气口（13）的上方设有限位环（15），限位环（15）安装于排气罩（12）的内壁上，限位环（15）的内径小于活塞头（10）的外径，排气罩（12）的高度大于活塞的高度。

9.按照权利要求1所述的一种新型焖烧锅，其特征在于所述锅体（1）是由铝制材料或者铜制材料制成的锅体。

10.按照权利要求1所述的一种新型焖烧锅，其特征在于所述真空锅盖（2）的顶部设有提手（14）。