[发明专利]一种壳体的防水纳米注塑方法

权利要求书

1.一种壳体的防水纳米注塑方法，其特征在于：包括以下步骤：

（1）壳体成型，采用模具将壳体通过纳米注塑成型，成型后取出以备后续加工；

（2）一次去毛刺，将壳体内部和一体成型的若干侧面孔位进行去毛刺，并进行壳体的全检外观，对合格品进行清洗；

（3）抛光，将上述完成一次去毛刺的壳体外表面和两侧面进行抛光，完成后采用CNC对壳体的外表面和两侧面上的孔位进行精铣；

（4）二次去毛刺，对精铣后的壳体进行去毛刺，并再次进行全检外观，将合格品清洗；

（5）对步骤（4）中清洗完的产品进行局部面的喷砂和整体的一次氧化操作，完成后进行全检外观；

（6）孔位加工，在上述全检完成后的壳体上进行贴第一层保护膜，并分别在壳体上进行若干次镭雕与高光进行孔位加工，完成后再次进行尺寸和结构的全检；

（7）三次去毛刺，使用干冰对壳体表面进行去污并对步骤（6）中镭雕与高光后的孔位进行去毛刺，完成后进行清洗，并在清洗过后贴上第二层保护膜，再次进行全检外观；

（8）将步骤（7）中贴完第二层保护膜后的的壳体进行二次氧化，并在氧化后的壳体上分别组装底盖和天线的接地弹片，进行最后的全检外观；

（9）将步骤（8）中检测合格的壳体贴第三层保护膜，再进行包装完成整个生产工艺。

2.根据权利要求1所述一种壳体的防水纳米注塑方法，其特征在于：步骤（2）中，一次去毛刺包括在壳体内部通过手工去毛刺、冷冻喷砂去毛刺以及CNC去毛刺，在上述手工去毛刺和冷冻喷砂去毛刺之间需要进行至少1次清洗。

3.根据权利要求1所述一种壳体的防水纳米注塑方法，其特征在于：前述步骤（6）中，其中包括若干次镭雕和若干次高光加工，镭雕加工包括第一次镭雕、第二次镭雕及第三次镭雕，其中第一次镭雕完成后还需要进行精铣与清洗后方可进行第二次镭雕，高光加工在第一次镭雕的清洗工艺和第二次镭雕之间。

4.根据权利要求3所述一种壳体的防水纳米注塑方法，其特征在于：通过第一次镭雕在壳体上雕刻二氧导电位，并由CNC铣出摄像头孔、闪光灯孔及音量孔，分别通过高光对闪光灯孔、音量孔以及壳体正面进行C角加工，再通过第二次镭雕在壳体背面上镭雕导电位、粘胶位及刻线，最后通过第三次镭雕加工出摄像头孔接地位。

5.根据权利要求1所述一种壳体的防水纳米注塑方法，其特征在于：前述步骤（7）中，在第三次去毛刺和清洗完成后，还需要采用CNC对壳体的内部进行内型落料和螺丝孔的加工，并同时采用螺母机将铜质螺母加热后压入壳体的所述螺丝孔内。

6.根据权利要求1所述一种壳体的防水纳米注塑方法，其特征在于：步骤（8）中，在二次氧化并全检外观合格后，还包括壳体各标识的镭雕以及去毛刺，并在壳体内装贴导电片或绝缘片或防震片。