[发明专利]一种金属熔体的净化装置

说明书

本发明公开一种金属熔体的净化装置，包括壳体和隔板，所述隔板竖向置于壳体内并将壳体分隔为过滤室和沉降室，所述隔板上设有多个连通过滤室和沉降室的集流孔，所述沉降室内设有沉降机构，所述沉降室侧壁设置金属熔体入口；所述过滤室上方设置金属熔体出口，过滤室内设有第一过滤板，所述第一过滤板固定于金属熔体出口和位置最高的集流孔之间；所述沉降室下方为夹杂物收集室，夹杂物收集室底部设置放流排渣口。其能够缩短金属熔体的沉降时间，提高金属熔体的净化效果，实现金属熔体的连续顺畅过滤。

技术领域

本发明涉及金属熔炼领域，具体涉及一种金属熔体的净化装置。

背景技术

随着科学技术和工业生产的发展，镁、铝等金属及其合金受到广泛应用。但是这些金属合金化学性质十分活泼，在熔炼、铸造、合金化处理等加工过程中，极易被氧化，生成金属夹杂或非金属夹杂，使得合金在力学性能、铸造性能、耐腐蚀性能等方面受到严重影响。夹杂物是危害合金质量及性能的主要杂质，因此尽可能多的去除夹杂物是金属熔体净化的主要目标之一。

目前，针对镁、铝等金属熔体夹杂，常见的净化方法有熔剂净化法、吹气净化法、过滤净化法、沉降净化法、超声波净化法、复合净化法等，这些净化方法中很多都涉及到对金属熔体的静置，在静置过程中，夹杂物密度比金属熔体大的下沉，夹杂物密度比金属熔体小的则会上浮。通常情况下，金属熔体的静置净化时间不能过长，需要在一定时间内完成金属熔体的静置净化工序，但是由于夹杂物在金属熔体中的迁移速度有限，使得坩埚中大部分密度较金属熔体大的夹杂物在短时间内不能完全沉降到坩埚底部，少量密度较金属熔体小的夹杂物在短时间内不能完全上浮到坩埚顶部，增加了静置时间，同时由于夹杂物不能在静置时间内完全沉降到坩埚底部，使得金属熔体在坩埚中上、下部纯度有一定差异。

CN101037727公开的“一种镁熔体的过滤装置”，装置包括坩埚，固定在坩埚内的隔板，由该隔板与坩埚构成的前处理室，其特征是在隔板与镁熔体出口端之间的坩埚内，密封固定有过滤室，该过滤室与隔板之间构成镁熔体的沉降室，并与镁熔体出口端构成过滤后镁熔体的后继处理室；该过滤室包括过滤孔板及其支撑架，支撑架的前后两端和底部分别密封固定在坩埚前后内壁和底部上，该过滤孔板向后继处理室端倾斜并与坩埚上平面的夹角大于0°而小于90°密封搁置在支撑台上。该装置解决了镁熔体过滤中，过滤孔板易发生堵塞的问题。但由于夹杂物在金属熔体中的流动性有限，使得沉降室中上层夹杂物在短时间内不能完全沉降到沉降室底部，增加了沉降时间，金属熔体的净化效果也受到影响。因此，需要开发一种提高金属熔体静置净化效果的装置。

发明内容

本发明的目的是提供一种金属熔体的净化装置，其能够缩短金属熔体的沉降时间，提高金属熔体的净化效果，实现金属熔体的连续顺畅过滤。

本发明所述的金属熔体的净化装置，包括壳体和隔板，所述隔板竖向置于壳体内并将壳体分隔为过滤室和沉降室，所述隔板上设有多个连通过滤室和沉降室的集流孔，所述沉降室内设有沉降机构，所述沉降室侧壁设置金属熔体入口；所述过滤室上方设置金属熔体出口，过滤室内设有第一过滤板，所述第一过滤板固定于金属熔体出口和位置最高的集流孔之间；所述沉降室下方为夹杂物收集室，夹杂物收集室底部设置放流排渣口。

进一步，所述沉降机构包括多块斜板、多块引流板和多根引流管，所述斜板上下平行设置于壳体内，相邻斜板之间形成金属熔体的沉降通道，沉降通道上方开口与金属熔体入口相通，除最下方斜板之外，所述斜板下端可拆卸连接有引流板；所述引流板上设有与引流管一端配合连接的引流孔，引流板下部设有朝向金属熔体入口方向弯折的挡流部，所述挡流部与下面相邻斜板之间留有容金属熔体流过的间隙；所述引流管另一端与隔板上的集流孔配合连接。引流板的挡流部与斜板之间的间隙保证夹杂物在间隙中能顺利通过，避免堵塞间隙，影响金属熔体和夹杂物的分离。

进一步，最上方的斜板的上端与壳体顶部固定连接。

进一步，所述引流管的截面形状为上端小 、下端大的水滴形。水滴形的引流管使得夹杂物和金属熔体能够完全落入夹杂物收集室，避免汇集在引流管上。