[发明专利]一种清新口气的口腔护理用品及其制备方法在审
申请号: | 201710147341.5 | 申请日: | 2017-03-13 |
公开(公告)号: | CN107028784A | 公开(公告)日: | 2017-08-11 |
发明(设计)人: | 陈敏珊;李林;李平;黄丹虹 | 申请(专利权)人: | 广州薇美姿实业有限公司 |
主分类号: | A61K8/365 | 分类号: | A61K8/365;A61K8/34;A61K8/81;A61K8/9789;A61Q11/00;A61K36/33;A61P1/02;A61P31/04;A61K33/30;A61K31/194;A61K31/05 |
代理公司: | 佛山市广盈专利商标事务所(普通合伙)44339 | 代理人: | 陈业胜 |
地址: | 510000 广东省广州市天*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 清新 口气 口腔 护理 用品 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及该技术属于口腔护理技术领域,具体涉及一种清新口气的口腔护理用品及其制备方法。
背景技术
口气又称口臭,指呼吸或张口时散发出异味的一种症状。口臭在成年人中相当普遍,流行病学调查显示口臭的发病率较高。Liu等调查了2000名年龄为15-64岁的中国人,口臭的患病率为27.5%(Xue N L,Shinada K,Xiao C C,et al.Oral malodor-related parameters in the Chinese general population[J].Journal of Clinical Periodontology,2006,33(1):31-6)。在日本有24%的30岁以上成人自诉有口臭症状;在美国,92%的牙科医生遇到过因口臭而求治的病人;将近50%的牙科医生每周都会遇到6个以上口臭的病人(叶玮.口臭病因和诊断的新进展[A].第十四届中国国际口腔器材展览会暨学术研讨会论文集,2010:2)。
口臭分为真性口臭(Genuine Halitosis)、假性口臭(Pseudo Halitosis)和恐臭症(Halitophobia)。真性口臭是指他人能够感觉到的来自口腔的明显异味。真性口臭分为生理性口臭(Physiologic Halitosis)和病理性口臭(Pathologic Halitosis)。生理性口臭产生于口腔腐化过程,没有会引起口臭的特殊疾病或病理状况存在。口臭主要来源是舌背的后方。食物因素(大蒜洋葱等)引起的暂时性口臭也归于此类。病理性口臭分为口源性口臭和非口源性口臭。口源性口臭由于口腔卫生状况差或某些口腔疾病而引起的,例如牙周病、未治愈的龋齿、口干症等引起的口臭。非口源性口臭由鼻腔、咽喉、肺部或上消化系统疾病全身疾病如尿毒症、肝硬化等造成的口臭。假性口臭指患者本人自我感觉有口腔异味,检查结果为阴性。此症状可通过解释说明和心理咨询得到改善者。恐臭症指经过真性或假性口臭的治疗后,患者仍坚持自己有口臭,经检查没有任何能引起口臭的因素存在。
引发口臭的病因有口腔内因素、口腔外因素和精神性因素。三种因素中,口腔内因素是主要致病因素。曾有研究表明87%的口臭病人的致病因素来自于口腔(Delanghe G,Ghyselen J,Bollen C,et al.An inventory of patients’response to treatment at a multi-disciplinary breath odor clinic[J].Quintessence Int,1999,30:307-310.)。此外,某些精神疾病和系统性疾病也会引发口臭。
据统计,80%-90%的口臭源于口腔,如龋病、牙周病、舌苔、食物嵌塞、不良修复体、口腔粘膜病等,其中龋齿和牙周病为最常见相关疾病。口腔内含有大量的微生物,其利用残留在口腔中的氨基酸、蛋白质等食物残渣分解代谢,产生令人不愉快的气味——挥发性硫化复合物(Volatile sulfur compounds,VSCs)。硫化物主要成分为硫化氢、甲基硫醇和乙基硫化物(Scully C,el-Maaytah M,Porter SR,et al.Breath odor:etippatheogenesis,assessment and management[J].Eur J Oral Sci,1997,105:287-293)。临床实验证明VSCs水平与口臭程度成正相关(NakanoY,Yoshimura M,Koga T.Correlation between oral malodor and periodontal bacteria[J].Microbes Infect,2002,4(6):67)。
目前,大多数研究认为口腔内引发口臭的微生物(主要是革兰阴性厌氧菌)主要集中在牙龈沟(牙周袋)和舌苔(Tonzetich J,McBride B C.Characterization of volatile sulphur production by pathogenic and non-pathogenic strains of oral Bacteroides[J].Arch Oral Biol,1981,26:963–969)。这与研究报道(刘兵红.口臭分类及相关病因分析[J].继续医学教育,2007,34:72-74)VSCs的口腔来源主要是牙龈沟(牙周袋)及舌背是相一致的。
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