[发明专利]沉淀池和具有其的污水处理系统

说明书

技术领域

本发明涉及污水处理设备技术领域，具体而言，涉及一种沉淀池和具有其的污水处理系统。

背景技术

沉淀池是利用悬浮物在水中的重力大于浮力而发生沉降的沉淀作用去除水中悬浮物的污水处理装置，沉淀池在废水处理中广为使用。

水流从进水通道进入沉淀池内，水流穿过沉淀池向出水通道流动的过程中，水流中的悬浮物会在重力作用下沉淀在沉淀池底部，而分离出悬浮物后的清水则通过出水通道排出沉淀池外。沉淀池中沉淀层与清水层交界的表面称为沉淀表面。沉淀池的主要工艺参数是表面负荷，表面负荷是水流的流量与沉淀池的横截面积之比。

现有技术中，沉淀池只有一个配水口和一个出水通道，从而形成单层流场，单层流场只能形成一个沉淀表面，表面负荷较小，污水处理量较小。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种沉淀池和具有其的污水处理系统，以解决现有技术中沉淀池只有一个沉淀表面，表面负荷较小，污水处理量较小的问题。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种沉淀池，包括：池体，池体具有内部腔体和与内部腔体连通的多个配水口，多个配水口在竖直方向上间隔设置；至少一个出水通道，出水通道与配水口在第一水平方向上间隔设置；经多个配水口进入内部腔体中的水流向出水通道流动的过程中，在池体的竖直平面内形成由上至下依次设置的多层循环流场。

进一步地，配水口包括第一配水口和第二配水口，出水通道包括第一出水通道和第二出水通道，第一配水口和第二配水口均设置在池体的第一侧，第一出水通道设置在池体的与第一侧相对的第二侧，第二出水通道位于第二配水口和第一出水通道之间，从第一配水口流出的水流经内部腔体从第一出水通道流出，从第二配水口流出的水流经内部腔体从第二出水通道流出。

进一步地，池体包括池体底壁和设置在池体底壁上且顺次首尾连接的第一侧壁、第二侧壁、第三侧壁和第四侧壁，其中，第一侧壁和第三侧壁相对设置，第二侧壁和第四侧壁相对设置，沉淀池还包括设置在第一侧壁上的配水渠，第一出水通道设置在第三侧壁上，第二出水通道设置在配水渠和第一出水通道之间，第一配水口和第二配水口均设置在配水渠上，配水渠、第一出水通道和第二出水通道均沿第二水平方向延伸，其中，第二水平方向与第一水平方向之间具有夹角。

进一步地，配水渠包括沿第一水平方向间隔设置且沿竖直方向延伸的第一过流通道和第二过流通道，第一过流通道的出口形成第一配水口，第二过流通道的出口形成第二配水口。

进一步地，配水渠还包括设置在第一侧壁上的配水渠底壁以及与配水渠底壁相连的配水渠立板，配水渠立板相对于配水渠底壁向上延伸，第一侧壁、配水渠底壁和配水渠立板之间围成配水槽，配水渠底壁上设有间隔设置的第一配水孔和第二配水孔，第一配水孔与第一过流通道和配水槽均连通，第二配水孔与第二过流通道和配水槽均连通。

进一步地，配水渠还包括设置在配水渠底壁上且向下延伸的第一导流板和第二导流板，第一导流板在竖直方向上的第一高度L1大于第二导流板在竖直方向上的第二高度L2，第一配水孔位于第一导流板和第一侧壁之间，第二配水孔位于第一导流板和第二导流板之间，第一侧壁与第一导流板之间形成第一过流通道，第一导流板与第二导流板之间形成第二过流通道。

进一步地，第一高度L1与第二高度L2之间满足以下关系：2L2≤L1≤3L2，其中，150cm≤L1≤300cm。

进一步地，配水渠立板的顶部低于第一侧壁的顶部，配水渠立板的顶部与第一侧壁的顶部之间的距离L3满足以下关系：30cm≤L3≤50cm。

进一步地，第一配水孔和第二配水孔均为多个，任意相邻两个第一配水孔之间的间距L4大于任意相邻两个第二配水孔之间的间距L5，且满足以下关系：40cm≤L4≤100cm，30cm≤L5≤80cm。

进一步地，第一配水孔和第二配水孔中均设有配水管，配水管的直径D满足以下关系：4cm≤D≤10cm。

进一步地，第一出水通道由第三侧壁、与第三侧壁连接的第一底壁以及与第一底壁连接的第一立板围成，第一底壁与第一立板之间具有夹角，配水渠包括设置在第一侧壁上的配水渠底壁以及与配水渠底壁相连的配水渠立板，第二出水通道由配水渠立板、与配水渠立板连接的第二底壁以及与第二底壁连接的第二立板围成，第二底壁与第二立板之间具有夹角。

进一步地，第一立板的顶部低于第三侧壁的顶部，第二立板的顶部与第一立板的顶部齐平，第一立板的顶部到第三侧壁的顶部之间的距离L6满足以下关系：90cm≤L6≤110cm。