[发明专利]自消毒砧板

权利要求书

1.一种自消毒砧板，其特征在于，包括：

板体，其一侧设有用于承载待切割材料的承载面；

支架，可活动地安装于所述板体上，且所述支架的状态包括收拢状态及伸展状态，所述支架通过折叠和/或转动和/或滑动，以实现在所述收拢状态与所述伸展状态之间切换；及

消毒单元，安装于所述支架上，且在所述支架的带动下可调整与所述板体的相对位置；

其中，所述支架处于收拢状态时，所述支架及所述消毒单元对所述承载面形成让位，所述支架处于所述伸展状态时，所述支架可带动所述消毒单元相对于所述承载面移动，直至所述消毒单元至少部分覆盖所述承载面；

所述支架包括多个依次连接的活动杆，所述活动杆上开设有滑槽，且一端设置有滑动头，其中一个所述活动杆的滑动头滑设于相邻所述活动杆的滑槽内，以使相邻的两个活动连杆可相对滑动及转动，所述消毒单元设置于其中一个所述活动杆上，通过所述多个活动杆相对转动及滑动，以实现所述收拢状态与所述伸展状态的切换；

所述板体上开设有收容槽，所述支架的一端安装于所述收容槽的底部，且在沿垂直于所述板体的方向上可伸缩，以使所述支架及所述消毒单元伸出或收容于所述收容槽内。

2.根据权利要求1所述的自消毒砧板，其特征在于，所述消毒单元包括板体及设置于所述板体上消毒体，所述板体上开设有条形槽，所述滑动头滑设于所述条形槽内，以将所述消毒单元设置于所述活动杆上。

3.根据权利要求1至2任一项所述的自消毒砧板，其特征在于，所述消毒单元为紫外线发射单元。

4.根据权利要求1至2任一项所述的自消毒砧板，其特征在于，还包括驱动组件，所述驱动组件与所述支架传动连接，以驱动所述支架在所述收拢状态与所述伸展状态之间切换。

5.根据权利要求1至2任一项所述的自消毒砧板，其特征在于，还包括吹风组件，所述吹风组件设置于所述板体的边缘，以朝向所述承载面吹风。

6.根据权利要求1所述的自消毒砧板，其特征在于，所述收容槽的边缘设置有可活动的盖板，所述支架及所述消毒单元收容于所述收容槽内时，所述盖板可覆盖所述收容槽。