[发明专利]一种陶瓷研磨体及其制备方法有效
申请号: | 201611157257.3 | 申请日: | 2016-12-15 |
公开(公告)号: | CN106747355B | 公开(公告)日: | 2018-06-22 |
发明(设计)人: | 钟声波 | 申请(专利权)人: | 萍乡顺鹏新材料有限公司 |
主分类号: | C04B35/10 | 分类号: | C04B35/10;C04B35/622;C04B35/626 |
代理公司: | 宁波市鄞州甬致专利代理事务所(普通合伙) 33228 | 代理人: | 王余钱 |
地址: | 337000 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 陶瓷研磨 制备 滑石 高岭土 二次球磨 干法成型 喷雾造粒 重量分数 烧结 等静压 分散剂 硅微粉 陶瓷球 氧化铝 次球 轻钙 粘土 | ||
1.一种陶瓷研磨体的制备方法,其特征在于,包含以下步骤:
1)一次球磨:将硅微粉、粘土、高岭土、轻钙、滑石分别干法球磨至平均粒径d50为1-2μm,然后按配方比例将氧化铝原料及干法球磨好的粉末称重、混合,加入分散剂进行湿磨至平均粒径d50为1-1.5μm;所述原料的重量分数为:氧化铝80-88份,硅微粉1.5-8份,高岭土5-8份,轻钙1.5-2.5份,滑石1-2份,分散剂0.3-0.8份,粘土1.5-2.5份;所述粘土的粒径≤1μm;硅微粉的平均粒径d50≤1μm;氧化铝为平均粒径≤1μm的α-氧化铝;氧化铝中的钠的质量分数≤0.1%;
2)二次球磨:将一次球磨好的浆料抽入研磨体较小的球磨机内,加入分散剂,进行二次球磨至平均粒径d50为0.6-1μm;
3)造粒:将二次球磨好的浆料在100~350℃下喷雾造粒,得到平均粒径d50为6-20μm、水含量为1-1.5%的颗粒;所述喷雾造粒的喷头压力为1.0-3MPa;
4)成型:将喷雾造粒得到的颗粒进行干法等静压压制成型,得到陶瓷研磨体坯体,所述干法等静压压制成型的压强为100~150MPa;
5)烧结:将坯体在1300~1500℃下烧结24-60小时,得到陶瓷研磨体成品。
2.根据权利要求1所述的陶瓷研磨体的制备方法,其特征在于,所述陶瓷研磨体坯体的直径为5-20mm。
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