[发明专利]一种新型陶瓷釉及其制备方法及施釉工艺在审
申请号: | 201611154128.9 | 申请日: | 2016-12-14 |
公开(公告)号: | CN106587625A | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | 郭留希;赵清国;武艳强;杨晋中;刘永奇;刘创勋;邵静茹;李盟;尹维召;穆小娜 | 申请(专利权)人: | 郑州人造金刚石及制品工程技术研究中心有限公司 |
主分类号: | C03C8/14 | 分类号: | C03C8/14;C04B41/86 |
代理公司: | 郑州立格知识产权代理有限公司41126 | 代理人: | 田小伍 |
地址: | 450000 河南*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 陶瓷 及其 制备 方法 工艺 | ||
技术领域
本发明属于陶瓷釉料及其制备技术领域,具体涉及一种新型陶瓷釉及其制备方法及施釉工艺。
背景技术
在中国五千年的文明史中,陶瓷的发展是灿烂辉煌的一页。釉是覆盖在陶瓷胚体表面上的无色或有色玻璃质薄层,其形成过程为:一般采用各种不同的矿物原料和不同的化工原料按一定比例配合经研磨后形成釉浆,施于陶瓷胚体表面,经一定温度地煅烧熔融,自然冷却得到。
目前陶瓷市场上主流的陶瓷制品为全抛釉陶瓷制品,例如全抛釉瓷砖。全抛釉以逼真的石材纹理深受消费者喜欢,其釉面如抛光砖般光洁,同时釉面花色图案丰富,色彩绚丽,可以生产出各种色泽明亮、色彩丰富的陶瓷制品,甚至于达到仿石材等逼真效果,全抛釉瓷砖与抛光砖和昂贵的高档石材相比,全抛釉瓷砖可大大减少材料损耗,更加节能减排,绿色环保,且全抛釉瓷砖具有抛光砖和仿古砖的优点,价格低廉。
目前全抛釉陶瓷制品都是采用普通的熔块釉,为软瓷,其玻璃相太多,硬度、耐磨性也很差,且容易划花,不耐用,难以满足其使用要求。
发明内容
本发明的目的是提供一种新型陶瓷釉,同时提供其制备方法是本发明的又一发明目的,提供其施釉工艺是本发明的第三个发明目的。
基于上述目的,本发明采取了如下技术方案:
一种新型陶瓷釉液的制备方法,所述陶瓷釉液由基础釉料分别添加水和纳米钻石烯制成,其制备方法包括以下步骤:
1)按比例称取基础釉料,球磨干磨;
2)球磨后过筛,筛下物加水混合制得混合液;
3)向混合液中添加纳米钻石烯继续混合即得;
所述基础釉料的重量百分比组成为:高岭土15%-35%、长石15%-20%、石英2%-8%、硅灰石5%-10%、方解石19%-22%、白云石1%-5%、磷酸钙3%-10%、TiO2 5%-10%、Cr2O3 1%-5%、CoO 0.1%-0.6%、羧甲基纤维素0.5%-2%;
步骤2)中筛下物与水的用量比为100g:(70-75)mL;
步骤3)中所述纳米钻石烯与混合液的用量比为(1-20)g:1L。
还包括步骤4)补加水将料液比重调整至1.9-2.0g/mL。
步骤1)中料球比为1:2,球为直径1-3mm的不锈钢球,球磨时间为15-20min。
步骤2)中过250目。
步骤2)中筛下物加水后搅拌混合,搅拌速度为15-30rpm,搅拌时间为30min-1h。
步骤3)中搅拌频率为15-30rpm,搅拌时间为1h-2h。
所述纳米钻石烯包括四种不同粒度,依次为:50nm、100nm、200nm和250nm,其质量比为(1~2):(2~3):(3~4):(4~5)。
纳米钻石烯经须经以下前处理:
ⅰ)搅拌混料
将不同粒度的纳米钻石烯倒入三维混料机中进行混料,混料时间控制在5min~30min;
ⅱ)超声波碱洗
将纳米钻石烯放入碱洗液中超声碱洗并旋转搅拌,超声频率为30~40KHz,碱洗液为浓度10%-15%的NaOH溶液,碱洗液温度为45~55℃,旋转转速为25~35rpm,清洗时间为25~35min,将纳米钻石烯表面附着的油污去除;
ⅲ)超声波清洗
碱洗后的纳米钻石烯置于去离子水中常温超声水洗并旋转搅拌,超声频率为30~35KHz,旋转转速为15~25rpm,搅拌时间为20~25min,测量上层清液pH值,反复清洗直至上层清液pH=7;
ⅳ)酸洗活化
将超声清洗后的纳米钻石烯放入酸洗液中常温超声酸洗并旋转搅拌,酸洗液为体积比1:10的浓盐酸和浓硫酸混合液,旋转转速为10~15rpm,搅拌时间为10~15min,达到将原料表面活化的目的;
ⅴ)超声波水洗
将酸洗活化后的纳米钻石烯置于去离子水中再次常温超声水洗并旋转搅拌,超声频率为30~35KHz,旋转转速为15~25rpm,搅拌时间为10~15min,反复清洗直至上层清液pH=7;
ⅵ)烘干
烘干工艺采用阶梯式烘烤工艺进行,常温升温至70℃,恒温保温30min,升温至90℃,恒温保温30min,升温至120℃,恒温保温3h,自然冷却至常温待用;整个过程中升温时采用的升温速率为2℃/min,烘干的目的是将处理过的原料中的水分去除。
由所述新型陶瓷釉液的制备方法获得的新型陶瓷釉液。
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