[发明专利]一种静轨面阵遥感相机分时动态成像模拟方法有效

专利信息
申请号: 201611105631.5 申请日: 2016-12-05
公开(公告)号: CN106650049B 公开(公告)日: 2020-03-24
发明(设计)人: 江澄;何红艳;鲍云飞;刘薇;曹世翔;周楠;李方琦;李岩 申请(专利权)人: 北京空间机电研究所
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 安丽
地址: 100076 北京市丰*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 静轨面阵 遥感 相机 分时 动态 成像 模拟 方法
【权利要求书】:

1.一种静轨面阵遥感相机分时动态成像模拟方法,其特征在于包括步骤如下:

步骤一:输入指定成像区域对应的高时频入瞳辐亮度图像;

步骤二:设置面阵遥感相机的成像指令;

步骤三:设置面阵遥感相机系统参数;

步骤四:根据步骤二确定的成像指令,利用步骤一输入的入瞳辐亮度、步骤三输入的相机系统参数进行模拟计算,得到DN值,并生成DN值图像;

步骤五:根据步骤四得到的DN值图像判断成像指令是否全部执行完成,是则输出仿真数据,否则重复步骤四;

其中:所述步骤二中,设置面阵遥感相机的成像指令如下:

任意选择成像模式中的1种或多种进行组合,形成成像指令,其中所述成像模式如下:

a)可见光至红外0.4~14μm光谱范围中的任意1个波段进行1次仿真成像,定义该模式为单谱段单次成像;

b)可见光至红外0.4~14μm光谱范围中的任意M个波段进行1次仿真成像,定义该模式为多谱段单次成像;M≥2;

c)可见光至红外0.4~14μm光谱范围中的任意1个波段进行T1、T2、…TN时刻的连续仿真成像,定义该模式为单谱段连续成像;N≥2

d)可见光至红外0.4~14μm光谱范围中的任意M个波段进行T1、T2、…TN时刻的连续仿真成像,定义该模式为多谱段连续成像;

其中:所述步骤四中,生成DN值图像的方法如下:

a)单谱段单次成像模式时,假设对T1时刻的λ1波段入瞳辐亮度L(T11)进行成像模拟,从而得到DN值,DN值计算公式如下:

其中,C是转换因子,G、B分别是运算放大器的增益和偏置,Nfull位探测器满阱电子数,bit为量化位数,N(T11)是探测器在T1时刻λ1波段产生的光生电子数,

其中,A为探测器探元面积;t(T11)为T1时刻λ1波段时相机的积分时间;ε为光学孔径面积遮拦比;η(λ1)为量子效率;F为相机的F数;h为普朗克常数;c为光速;τ(λ1)为光学系统透过率;R(λ1)光谱响应函数;

DN值图像为数据立方体,XY维空间为T1时刻λ1波段的图像信息,Z维对应成像时刻T1和波段λ1组合(T11),其中Z维的维度为1;

b)多谱段单次成像模式时,假设对T1时刻的λ1、λ2、…λM波段入瞳辐亮度L(T112...λM)进行成像模拟,从而生成DN值,DN值计算公式如下:

其中,N(T112...λM)是探测器在T1时刻λ1、λ2、…λM波段产生的光生电子数;

DN值图像为数据立方体,XY维空间为T1时刻λ1、λ2、…λM波段的图像信息,Z维对应成像时刻T1和波段λ1、λ2、…λM组合(T11)、(T12)…(T1M),其中Z维的维度为M;

c)单谱段连续成像模式时,假设对T1、T2、…TN时刻的λ1波段入瞳辐亮度L(T1,T2...TN1)进行连续成像模拟,从而生成DN值,DN值计算公式如下:

其中,N(T1,T2...TN1)是探测器在T1、T2、…TN时刻λ1波段产生的光生电子数;

DN值图像为数据立方体,XY维空间为T1、T2、…TN时刻λ1波段的图像信息,Z维对应成像时刻T1、T2、…TN和波段λ1组合(T11)、(T21)…(TN1),其中Z维的维度为N;

d)多谱段连续成像模式时,假设对T1、T2、…TN时刻的λ1、λ2、…λM波段入瞳辐亮度L(T1,T2...TN12...λM)进行成像模拟,从而生成DN值,DN值计算公式如下:

其中,N(T1,T2...TN12...λM)是探测器在T1、T2、…TN时刻λ1、λ2、…λM波段产生的光生电子数;

DN值图像为数据立方体,XY维空间为T1、T2、…TN时刻下λ1、λ2、…λM波段的图像信息,Z维对应成像时刻T1、T2、…TN和波段λ1、λ2、…λM组合(T11)、(T12)…(T1M)、(T21)、(T22)…(T2M)、(TN1)、(TN2)…(TNM),其中Z维的维度为N*M。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京空间机电研究所,未经北京空间机电研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611105631.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top