[发明专利]一种球形纳米CeO2有效

专利信息
申请号: 201611055999.5 申请日: 2016-11-23
公开(公告)号: CN106587131B 公开(公告)日: 2018-05-18
发明(设计)人: 朱达川;周川 申请(专利权)人: 四川大学
主分类号: C01F17/00 分类号: C01F17/00;C09G1/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610065 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 球形 纳米 ceo base sub
【说明书】:

本发明公开了一种球形纳米CeO2抛光粉的制备方法,属于纳米材料研究领域,其特征在于以含结晶水的铈盐和柠檬酸为原料,适量乙醇作润滑剂,利用球磨提供的机械力细化原料,提高反应效率;同时利用原料中释放出的结晶水与润滑剂乙醇共同组成液膜,从而直接制得前驱体的凝胶,实现了球磨固相化学反应法和溶胶—凝胶法的有机结合,凝胶在后续煅烧过程中有效抑制氧化铈粒子的团聚和长大,有利于制得粒径均匀、分散性较好的球形纳米CeO2抛光粉。通过本发明制备得到的CeO2抛光粉体颗粒尺寸均匀,为纳米级,分散性良好,具有良好的抛光性能;本发明方法具有工艺简便,效率高,无污染,可重复性好等优点,适合工业大规模生产。

技术领域

本发明属于纳米材料研究领域,具体涉及一种粒径均匀、分散性较好的球形纳米CeO2抛光粉的制备方法。

背景技术

自从二十世纪四十年代前后,人们就开始利用稀土抛光粉来抛光光学玻璃。相对早期使用的氧化铁抛光粉,稀土抛光粉的抛光效率提高了一倍。常见的玻璃抛光粉多为三价和四价的金属氧化物,如铁、铝、铈、钛、锆、钍和铬等。铈基稀土抛光粉被誉为最好的抛光材料,广泛应用于对材料表面进行抛光处理以提高材料的表面平整度,具有硬度适中、效率高、使用寿命长等优点。随着科学技术的不断迅速发展,一些特殊的抛光领域对抛光粉特性的要求越来越高,例如液晶显示屏的抛光、光学记入材料的抛光、高精密光学玻璃的抛光等都对光滑平面有较高的需求,对表面划伤的要求极为严格,因而对抛光粉的各种物理特性都提出了相应的更高指标要求,例如粒度、粒度分布、表面活性、密度等。

关于制备纳米CeO2粉体的报道有很多。专利CN101284952公开了一种利用均相沉淀法制备CMP抛光磨料粒子的方法,所得CeO2粉体晶粒尺寸为5~100nm,其比表面积为0~50m2/g,但是其在制备过程中需要超声震动来实现溶液的均匀混合,并需要添加有机物表面活性剂来改善产物分散性。专利CN101244837公开了一种以Ce(NO3)·6H2O和N,N二甲基乙酰胺(DMA)为原料,通过水热法与固相反应法结合制备出颗粒比较均匀、纯度高的纳米CeO2,其水热反应需在150~180℃进行24~72小时,制备周期过长,效率低,能耗较高。专利CN102557103A公开了一种用微乳液法制备了无明显颗粒团聚、粒径分布均匀的纳米CeO2粒子,但是其在制备过程中需使用大量有机溶剂与强碱溶液,对环境污染较严重。专利CN201210473426.X公开了一种形貌可控的纳米CeO2的制备方法,其采用的原料为六水硝酸铈、柠檬酸及氨水,通过控制溶胶-凝胶法实验条件及焙烧温度,制备出不同形貌的纳米CeO2粒子,该方法具有溶胶-凝胶法共有的缺点:从反应溶液制得凝胶需要过长的加热时间。此外还有很多制备纳米CeO2粉体方法,但这些方法均不同程度的存在以下问题:制备工艺复杂、操作要求高、反应条件严苛等缺点,不适合工业生产与推广。

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