[发明专利]小孔分子筛负载铜催化剂

权利要求书

1.一种处理废气的体系，其包含位于SCR催化剂上游的NO_x吸附催化剂，其中所述SCR催化剂包含负载在分子筛上的铜或铁，其中所述分子筛(a)具有8个四面体原子的最大环尺寸；和(b)选自硅铝酸盐分子筛、金属取代的硅铝酸盐分子筛和磷铝酸盐分子筛，其中所述分子筛具有AEI的骨架代码。

2.如权利要求1所述的体系，其特征在于，所述分子筛的氧化硅与氧化铝之比为约8至约150。

3.如权利要求1所述的体系，其特征在于，所述铜在所述小孔分子筛中的含量为0.5-5重量％。

4.如权利要求1所述的体系，其特征在于，所述NO_x吸附催化剂包含贵金属和选自碱金属、碱土金属和稀土金属的基本材料。

5.如权利要求1所述的体系，其特征在于，所述NO_x吸附催化剂负载在第一基材上，所述SCR催化剂负载在第二基材上，并且就废气正常流过该体系的方向而言，所述第一基材位于所述第二基材前面。

6.如权利要求1所述的体系，其特征在于，它还包含氨组分，其中所述氨组分由所述NO_x吸附催化剂产生。

7.如权利要求1所述的体系，其特征在于，它还包含交替的还原气氛和氧化气氛，其中所述SCR催化剂暴露于所述交替气氛。

8.如权利要求7所述的体系，其特征在于，所述还原气氛是富燃废气，所述氧化气氛是贫燃废气。

9.一种使用催化剂的方法，它包括：

使SCR催化剂暴露于包含在NO_x吸附催化剂上产生的NH₃的还原气氛，并在所述暴露步骤中利用所述SCR催化剂储存NH₃，以及

使所述SCR催化剂接触非还原气氛中的NO_x，利用储存的NH₃实现对所述NO_x的选择性还原；

其中所述SCR催化剂包含负载在分子筛上的铜或铁，其中所述分子筛(a)具有8个四面体原子的最大环尺寸；(b)选自硅铝酸盐分子筛、金属取代的硅铝酸盐分子筛和磷铝酸盐分子筛；以及(c)已经利用选自脱铝、阳离子交换或磷处理中的至少一种技术处理，以提高水热稳定性。

10.如权利要求9所述的方法，其还包括以下步骤：

使所述NO_x吸附催化剂接触包含NO_x的贫燃废气，以及

利用NO_x吸附催化剂储存所述贫燃废气中的至少一部分NO_x。

11.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述分子筛具有选自AEI、LEV、ERI和DDR的骨架代码；其中所述铜在所述小孔分子筛中的含量为0.5-5重量％，且其中所述NO_x吸附催化剂包含贵金属和选自碱金属、碱土金属和稀土金属的基本材料。

12.一种处理废气的方法，它包括：

a.使NO_x吸附催化剂和SCR催化剂暴露于贫燃废气，其中相对于废气流动方向，所述SCR催化剂位于NO_x吸附催化剂下游，且其中所述SCR催化剂包含负载在分子筛上的铜，其中所述分子筛(a)具有8个四面体原子的最大环尺寸；(b)选自硅铝酸盐分子筛、金属取代的硅铝酸盐分子筛和磷铝酸盐分子筛；以及(c)已经利用选自脱铝、阳离子交换或磷处理中的至少一种技术处理，以提高水热稳定性；

b.使所述NO_x吸附催化剂和所述SCR催化剂暴露于还原气氛；以及

c.以循环方式重复步骤(a)和(b)；

其中所述NO_x吸附催化剂在步骤(a)中储存NO_x，并在步骤(b)中释放NO_x，产生NH₃；且所述SCR催化剂储存由所述NO_x吸附催化剂在步骤(b)中产生的NH₃，并利用储存的NH₃在步骤(a)中选择性还原NO_x。

13.如权利要求12所述的方法，其特征在于，所述还原气氛在选自下面的一个或多个事件中产生：烟灰微粒过滤器再生、NO_x吸附催化剂再生和NO_x吸附催化剂脱硫。