[发明专利]一种煤气在窑炉上的使用方法

说明书

技术领域

本发明涉及煤气的使用方法。

背景技术

现有技术，没有开关窑炉煤气阀，煤气压力变化与氧化层的关系。 一次改变煤气压力不大于20Pa，窑炉温度变化速度慢。开关窑炉煤 气阀，时间不确定，降低窑炉温度，降低气化效率。

发明内容

为解决上述问题，本发明的目的是提供一种煤气的使用方法。

为了实现上述目的，本发明采取下述技术方案，包括：

开大煤气阀，煤气压力每减少10Pa，氧化层上升15-28mm(本 发明没有特别说明，氧化层指煤气炉正在发生氧化层化学反应的燃料 层，消耗大部分氧气，氧化层长度60-120mm，煤气压力测量点在煤 气炉煤气出口)；

关小煤气阀，煤气压力每增加10Pa，氧化层下降15-28mm；

煤气炉增加空气流量，窑炉运行参数正常，窑炉升温效果差，是 煤气炉氧化层循环位置低，煤气热值低，氧化层上下循环的第一个环 节，氧化层上升60s内，开大煤气阀，减少煤气压力10-20Pa，氧化 层上升20-50mm，或提高煤气炉饱和温度0.5-3℃，氧化层上升 20-50mm，作用，升高氧化层循环位置至适当，或缩短与适当的氧化 层循环位置的距离，(适当的氧化层循环位置，指气化效率最高对应 的氧化层循环位置)，提高气化效率，提高窑炉升温速度。

氧化层上下循环的第二环节，单段炉氧化层下降6min后，两段 炉氧化层下降10min后，包括氧化层上下循环的第三环节，第三环节 是氧化层下降过程的后部，降低饱和温度0.5-3℃，氧化层下降 20-50mm，还原层下降20-50mm，温度升高，提高水蒸汽分解率，2min 之内；开大煤气阀，煤气压力减少10-20Pa，氧化层上升20-50mm， 还原层上升20-50mm，温度降低，降低水蒸汽分解率；氧化层上升距 离基本等于氧化层下降距离，作用，小幅度增加煤气使用量，增加水 蒸汽分解量，减少或消除适当的氧化层循环位置上升，气化效率稳定， 窑炉温度稳定变化

氧化层上下循环的第二环节，单段炉氧化层下降6min后，两段 炉氧化层下降10min后，包括氧化层上下循环的第三环节，氧化层下 降过程的后部，关小煤气阀，煤气压力增加10-20Pa，氧化层下降 20-50mm，还原层下降20-50mm，温度升高，提高水蒸汽分解率；下 一个氧化层循环周期，氧化层上下循环的第一环节，氧化层上升60s 内，提高饱和温度0.5-3℃，氧化层上升20-50mm，还原层上升 20-50mm，温度降低，降低水蒸汽分解率；氧化层下降距离基本等于 氧化层上升距离，作用，小幅度减少煤气使用量，增加水蒸汽分解量， 减少或消除适当的氧化层循环位置下降，气化效率稳定，窑炉温度稳 定变化。

开大煤气阀，煤气压力减少30-60Pa，氧化层上升60-160mm， 小于、等于氧化层长度，或大于氧化层长度60mm之内，还原层上升 距离等于氧化层上升距离，1-4min，氧化层温度升至950-1250℃；降 低饱和温度2-8℃，氧化层下降60-160mm，小于、等于氧化层长度， 或大于氧化层长度60mm之内，还原层下降距离等于氧化层下降距 离，开始还原层温度950-1250℃，提高水蒸汽分解率，单段炉9-11min， 两段炉13-16min，饱和温度升高1-8℃；减少和消除蒸汽压力增长， 单段炉2-5min，两段炉4-10min；氧化层上升距离等于氧化层下降距 离，或氧化层上升距离小于氧化层下降距离30mm之内，作用，一次 大幅度增加煤气使用量，增加水蒸汽分解量，减少蒸汽压力增长改变 氧化层位置，窑炉升温多。