[发明专利]自动清洗装置

权利要求书

1.一种自动清洗装置，其特征在于，包括壳体(10)、一端伸入所述壳 体(10)内的旋转轴(23)、位于壳体(10)内并与所述旋转轴(23)伸入壳 体(10)内的一端相连的叶轮(21)、位于壳体(10)外并与所述旋转轴 (23)的另一端相连的毛刷头(22)、以及气体输入装置(30)；

所述气体输入装置(30)向所述壳体(10)内的叶轮(21)提供压缩气 体，在压缩气体的气流下，所述叶轮(21)旋转，并带动所述旋转轴(23) 和毛刷头(22)旋转，且所述叶轮(21)、旋转轴(23)和毛刷头(22)被顶 起，从而使毛刷头(22)与待清洗物相接触并进行刷洗。

2.如权利要求1所述的自动清洗装置，其特征在于，所述壳体(10)上 设有连接孔(11)，所述旋转轴(23)一端经由所述连接孔(11)伸入所述壳 体(10)内。

3.如权利要求2所述的自动清洗装置，其特征在于，所述旋转轴(23) 上还设有轴套(24)，所述轴套(24)位于所述连接孔(11)与叶轮(21)之 间，以限定所述旋转轴(23)被压缩气体顶起的高度。

4.如权利要求1所述的自动清洗装置，其特征在于，所述气体输出装置 (30)包括：气体输送管(31)、以及与所述气体输送管(31)相连的气体处 理装置(32)；

所述气体输送管(31)包括进气口和出气口，所述气体输送管(31)的 进气口与气体处理装置(32)相连，出气口伸入所述壳体(10)内并与所述 叶轮(21)相对设置。

5.如权利要求4所述的自动清洗装置，其特征在于，所述气体处理装置 (32)为CDA系统，所述气体输入装置(30)提供的压缩气体为压缩空气。

6.如权利要求1所述的自动清洗装置，其特征在于，所述自动清洗装置 用于清洗pH计的电极头(51)。

7.如权利要求6所述的自动清洗装置，其特征在于，还包括外壳 (40)，所述外壳(40)包裹所述壳体(10)，所述外壳(40)对应所述毛刷头 (22)的一侧表面设有凹槽(41)，所述凹槽(41)的底部上设有定位孔 (42)，所述毛刷头(22)经由所述定位孔(42)伸出所述外壳(40)外而位 于所述凹槽(41)内；

所述电极头(51)安装于pH计的电极柱(52)的一端；

所述凹槽(41)的直径等于或大于所述电极柱(52)的直径。

8.如权利要求7所述的自动清洗装置，其特征在于，使用时，将所述电 极柱(52)安装有电极头(51)的一端插入所述凹槽(41)内，此时所述电 极头(51)、定位孔(42)、连接孔(11)、及旋转轴(23)端面的中心点位于 同一直线，当所述气体输入装置(30)无压缩气体输入时，所述毛刷头 (22)与电极头(51)不接触；当所述气体输入装置(30)输入压缩气体时， 在压缩气体的气流下，所述叶轮(21)旋转，并带动所述旋转轴(23)和毛 刷头(22)旋转，且所述叶轮(21)、旋转轴(23)和毛刷头(22)被顶起， 从而使毛刷头(22)与电极头(51)相接触并进行刷洗。

9.如权利要求1所述的自动清洗装置，其特征在于，所述叶轮(21)在 压缩气体的气流下顺时针单向旋转、或逆时针单向旋转。

10.如权利要求6所述的自动清洗装置，其特征在于，所述pH计为用 于废液池内的pH计。