[发明专利]一种竖直阵列石墨烯薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种竖直阵列石墨烯薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

a）制备氧化石墨烯溶液；

b）将氧化石墨烯溶液涂覆在基板上；

c）氧化石墨烯通过强还原剂还原成石墨烯薄膜；

d）将石墨烯薄膜在设计模子里裁剪并折叠成竖直排列的石墨烯薄膜；

e）用粘结剂固化竖直阵列石墨烯薄膜；

f）对竖直阵列石墨烯薄膜表面抛光，以获取与器件表面更好的接触，最后填入聚合物胶，用于改良石墨烯薄膜层间接触。

2.根据权利要求1所述的竖直阵列石墨烯薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤b）中用于涂覆氧化石墨烯的基板为：玻璃、二氧化硅或金属氧化物基板。

3.根据权利要求1所述的竖直阵列石墨烯薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤c）中的强还原剂为：L-抗坏血酸溶液、水合肼、硼氢化钠、氢碘酸或路易斯酸。

4.根据权利要求1所述的竖直阵列石墨烯薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤d）中的设计模子是聚四氟乙烯材料制成。

5.根据权利要求1所述的竖直阵列石墨烯薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤e）中的使用的粘结剂为：环氧树脂、柔性胶、万能胶、聚氨酯胶或者商业用导热胶。

6.根据权利要求1所述的竖直阵列石墨烯薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤e）中的固化时间范围是4h-12h，温度范围是20-120℃。

7.根据权利要求1所述的竖直阵列石墨烯薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤f）中的用于抛光石墨烯薄膜表面方法为：机械抛光、超细研磨膏抛光或者蒸气抛光。

8.根据权利要求1所述的竖直阵列石墨烯薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤f）中的聚合物胶为：聚二甲基硅氧烷或氨基甲酸酯。