[发明专利]高折射率硅氧烷

权利要求书

1.一种用饱和桥接双环基团改性的含硅材料，其中所述饱和桥接双环基团是式(1)的双环(2,2,1)基团：

其中R¹-R⁷独立地选自H、C1-C12烷基、-CO₂R’和-(CH₂)_n-B；n为0-12；B为OR’、SR’、NR⁸R⁹，其中R⁸和R⁹是单价烃基；R’为C1-C12烷基；和A为CH₂、NR’、S、SO或SO₂；且其中所述含硅材料是选自如下的硅氧烷：

(i)式(2)的环状硅氧烷：

其中D¹-D³是式R¹³R¹⁴SiO_2/2的基团，R¹³和R¹⁴独立地选自式(1)的双环化合物、甲基、H或苯基，其中R¹³和R¹⁴基团中的至少一个为式(1)的双环化合物，a+b+c为3-10，且a、b或c中的至少一个大于0；

(ii)式4的硅氧烷：

其中R¹⁰基团独立地选自甲基、乙烯基、烷氧基、醇、氢、卤素、巯基、氨基和环氧基；R¹¹、R¹²、R¹³、R¹⁴、R¹⁵、R¹⁷和R¹⁸独立地选自相同或不同的、未取代或取代的一价烃基、芳香基、烷氧基、巯基、异氰基、氨基、丙烯酰、羰基、硅氧基和环氧基；R¹⁶选自式(1)的双环化合物或者未取代或取代的一价烃基；a、b、c、e和j是正整数，条件是当j大于0时c是0，且当c大于0时j是0；a为0-1000，b为1-500，c为0-500，e为0-500，和j为0-500；或

(iii)式7的硅氧烷：

R¹⁰、R¹¹、R¹²、R¹³和R¹⁴独立地选自氢、羟基或选自如下基团的含1-30个碳原子的基团：线性或支化的烷基、环烷基、线性或支化的烷氧基、支化或线性烯基、环烯基、线性或支化的炔基、芳基、取代的芳基、酰胺、氨基、丙基-巯基基团、硅氧基、含环氧基的基团、丙烯酰基、异氰基、羧基或式(1)的双环基团，其中R¹⁰、R¹¹、R¹²、R¹³和R¹⁴基团中的至少一个是式(1)的双环分子；R¹⁶选自式(1)的双环化合物或者未取代或取代的一价烃基；R¹⁹是一价烃基；a为0-1000，b为0-500，和d为0-100，其中在任何特定实施方案中至少两个下标是正整数，且单元d为1-500。

2.根据权利要求1所述的含硅材料，其中在式7的硅氧烷中，R¹⁹是苯基。

3.根据权利要求1所述的含硅材料，其中所述式(1)的双环(2,2,1)基团是与硅原子键合的降冰片基。

4.根据权利要求1所述的含硅材料，其中所述硅氧烷具有式2a：

其中a为0-6，b为1-6，c为0-6，且R¹³、R¹⁴和R¹⁷独立地选自未取代或取代的一价烃基、芳香基、烷氧基、巯丙基、异氰基和环氧丙基；R¹⁶选自降冰片基或对于R¹³、R¹⁴和R¹⁷所描述的基团。

5.根据权利要求4所述的含硅材料，其中a是0，b是1-6，c是0，和R¹⁶是甲基。