[发明专利]一种用于CT成像系统的整体封装碳纳米射线源有效

专利信息
申请号: 201410736200.3 申请日: 2014-12-05
公开(公告)号: CN104362063A 公开(公告)日: 2015-02-18
发明(设计)人: 张成祥;谭思晴;郑海荣;胡占利;陈垚;桂建宝;洪序达;张韵婉 申请(专利权)人: 中国科学院深圳先进技术研究院
主分类号: H01J35/24 分类号: H01J35/24;H01J35/08;A61B6/03
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 ct 成像 系统 整体 封装 纳米 射线
【说明书】:

技术领域

发明涉及医疗成像设备领域,尤其涉及基于固定阳极的碳纳米CT(Computed Tomography,计算机断层扫描)成像系统。

背景技术

通常,螺旋CT成像系统包括:X射线管、高压发生器、探测器、转换器、机壳和计算机系统等部件,其工作原理为:高压发生器激发X射线管发出X射线,X射线穿过人体后被探测器接收,计算机系统连接探测器显示被测部位图像。其中,X射线管主要包括阴极和阳极,当阴极产生高速电子轰击阳极时,只有小于1%的能量转化为X射线,而超过99%的能量转化成热能聚集在阳极耙面上,由于阳极耙面的承热能力是有限的,如果热能不能被及时传导出去,当热能累积量超过X射线管阳极的承热能力时,阳极耙面就会被损毁,从而导致X射线管的损坏,所以,X射线管阳极耙面的传热性能决定了X射线管的质量和使用寿命。

目前,螺旋CT成像成像系统主要以旋转阳极作为X射线管的阳极,通过旋转阳极的高速旋转避免阳极靶面由于局部高温导致的损坏,但是旋转阳极仍不能从根本上解决X射线管的散热问题。主要原因为:X射线管的内部与外界隔绝,旋转阳极的主轴在真空玻璃管内高速旋转,热量不能通过主轴传导出去,同时,X射线管采用高真空的玻璃管,也不能与外界环境进行对流传热,旋转阳极只能等待阳极耙面温度升高后,通过热辐射将阳极靶面的热能辐射到X射线管的玻璃管壁,再通过玻璃管壁传导至外界环境,以至于旋转阳极的导热效率极低。另外,虽然旋转阳极的阳极耙面承热能力高,可以避免阳极靶面的局部损坏问题,但是,没有及时传导出去的热量随着工作时间的增加,热量累积会不断加大,当热量累积到一定程度时CT成像系统就会开启自我保护,自动停机,防止CT设备损坏,所以,采用旋转阳极的X射线管的CT成像系统连续工作时间较短。

此外,采用旋转阳极的X射线管的CT成像系统由于自身特性还存在以下问题:首先,高速电子在轰击高速旋转的旋转阳极耙面时,由于旋转阳极产生圆周力,产生的部分X射线也会随着阳极耙面旋转方向发生偏转,使X射线能量减弱,均匀性降低,从而使成像质量下降;其次,由于采用旋转阳极的X射线管结构复杂,导致控制X射线管的方法也较为复杂,在使用过程中容易损坏、故障率较高、可靠性较差以及使用寿命较短;最后,采用旋转阳极的X射线管制造工艺较为复杂,生产成本较高,生产难度大,以国内目前的制造工艺方法中较难生产出质量优秀的旋转阳极,在同等情况下,采用旋转阳极的X射线管的CT成像系统实用性较差。另外,目前的传统碳纳米射线源普遍存在寿命低的缺点,特别是在碳纳米射线源使用寿命的中后期,碳纳米射线源的性能下降很快,严重影响了CT成像系统的性能。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种用于CT成像系统的整体封装碳纳米射线源,解决传统碳纳米射线源寿命低的缺点,在保证X射线管散热性能的基础上,延长CT成像系统的连续工作时间,保证CT成像系统的成像质量,提高CT成像系统的可靠性,延长CT成像系统的使用寿命。

为了达到上述发明创造目的,本发明采用了如下的技术方案:

一种用于CT成像系统的整体封装碳纳米射线源,至少包括机壳、阳极和阴极,其中,所述阳极的数量在50个至90个之间,所述阴极的数量在50个至90个之间,所述阳极和阴极均呈环形阵列对应设置在所述机壳内部,所述阳极为固定阳极,所述阴极为碳纳米管阴极。

进一步地,机壳包括激发端和放射端,所述激发端和放射端分别位于所述机壳两侧,所述阳极固定在所述激发端,所述阴极固定在所述放射端。

进一步地,所述阳极至少包括激发面,所述阴极至少包括放射面,所述激发面为斜面,所述放射面为凸形曲面,所述阴极用于在外加电场下产生电子,所述放射面的凸形曲面用于聚焦电子形成电子束,并发射电子束轰击所述阳极的激发面以产生X射线。

进一步地,所述机壳内部设有栅极和聚焦极,所述栅极和聚焦极位于所述阳极与所述阴极之间。

进一步地,所述栅极位于所述阴极一侧,呈圆环状,栅极的表面设有栅极孔,用于在外加电场作用下使电子加速,产生电子束一次聚焦。

进一步地,所述聚焦极位于所述阳极一侧,呈圆环状,聚焦极的表面设有聚焦孔,用于形成电子束二次聚焦,增加轰击所述阳极的电子数量。

进一步地,所述激发面的倾斜角度为7度至25度之间。

进一步地,所述激发面的倾斜角度为10度。

进一步地,所述阴极的数量为60个,所述阳极的数量为60个,每一个所述阳极的激发面的材料为钨或者钎焊石墨。

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