[发明专利]一种低雾度聚酯薄膜的制备方法在审
申请号: | 201410374212.6 | 申请日: | 2014-08-01 |
公开(公告)号: | CN104151589A | 公开(公告)日: | 2014-11-19 |
发明(设计)人: | 金国华;黄强;杨乐;施燕;陈胜利;周明;许修安;叶建明;韩州;朱霆 | 申请(专利权)人: | 苏州袭麟光电科技产业有限公司 |
主分类号: | C08J7/04 | 分类号: | C08J7/04;C09D175/06;B29C55/14;C08L67/00 |
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地址: | 215422 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 低雾度 聚酯 薄膜 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于聚酯薄膜技术领域,具体涉及一种低雾度聚酯薄膜的制备方法。
背景技术
聚酯薄膜因具有拉伸强度大、弹性模量高、耐冲击强度大、耐热耐寒性好、电绝缘性能佳等优良特点,而广泛应用于众多行业和领域。聚酯薄膜因应用领域的不同,其性能的要求也各不相同。常规领域中多注重聚酯薄膜的机械性能和稳定性等,而对光学性能则要求不高。
在光学薄膜领域,为了使薄膜达到低雾度、高透光率的效果,生产过程需要降低添加剂(比如SiO2)的使用量,但降低添加剂含量会使薄膜表面粗糙度降低,使后续的分切收卷非常困难。
因此为了使聚酯薄膜在光学领域的使用更为普遍,急需解决兼顾加工性能与高透光率的技术方案。
发明内容
本发明提供了一种低雾度聚酯薄膜的制备方法,用以解决加工性能与低雾度无法兼得的问题。
为了解决上述技术问题,本发明的技术方案是:所述低雾度聚酯薄膜的制备方法,包括如下步骤:
1)配置涂布液:将固化剂、粘合剂、表面活性剂、硅溶胶和水搅拌均匀,获得水性涂布液;
2)聚酯薄膜纵向拉伸:将聚酯铸片经60~80℃温度的辊筒进行预热,再进入红外线加热器内进行加热,然后纵向拉伸形成膜片;
3)涂布液涂布:对膜片的一面或两面进行电晕处理,并将步骤1)配置的水性涂布液均匀涂覆电晕面上;
4)聚酯薄膜横向拉伸:将步骤3)涂布后的膜片在100-130℃的温度下横拉预热,涂布液固化后,进行横向拉伸,经热定型处理和烘干固化,冷却后牵引收卷,制得低雾度聚酯薄膜。
优选地是,硅溶胶的粒径为50-80nm。
优选地是,所述固化剂为异氰酸酯,所述粘合剂为聚丙烯酸酯和聚酯的1:3重量配比的混合物,所述表面活性剂为甲基苯硫酸铵盐、聚乙二醇壬酚醚硫酸铵盐、聚乙二醇壬酚醚硫酸钠盐、聚乙二醇辛酚醚铵盐阴离子型表面活性剂或聚乙二醇硬酯酸醚、乙二醇壬酚醚、聚乙二醇辛酚醚、聚乙二醇癸基醚、聚乙二醇三癸基醚、聚乙二醇月桂醚等非离子型表面活性剂。
本发明所述的异氰酸酯是异氰酸的各种酯的总称,其包括NCO基团,按-NCO基团的数量分类,包括单异氰酸酯R-N=C=O和二异氰酸酯O=C=N-R-N=C=O及多异氰酸酯等种类。
优选地是,所述异氰酸酯选自甲苯二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、己二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯或异佛尔酮二异氰酸酯。
优选地是,所述涂布液各组分按重量配比如下:
优选地是,所述步骤2)中纵向拉伸的线速度为25-75m/min、纵向拉伸倍率为2.8-3.5倍。
优选地是,所述步骤3)涂布液涂层的湿膜厚度为2.0-7.0μm。本发明水性涂布液可通过涂布机的扇形模头喷涂在膜片,再用挤压式线棒进行刮涂,将水性涂布液均匀涂覆在膜片上,通过挤压式线棒对涂层进行精确计量,能到所需的湿膜厚度。
优选地是,所述步骤4)中横向拉伸的倍率为3-5倍。
优选地是,所述步骤4)中热定型处理和烘干固化温度为200-240℃,冷却至50-70℃,牵引收卷。
本发明提供的技术方案将硅溶胶加入涂布液中,对聚酯表面进行涂布改性,提高薄膜爽滑性能的特性,解决了未添加填料的低雾度薄膜难以加工的问题,方法简单易行,适于推广。
具体实施方式
实施例1
所述低雾度聚酯薄膜的制备方法,包括如下步骤:
1)配置涂布液:将固化剂、粘合剂、表面活性剂、硅溶胶和水搅拌均匀,获得水性涂布液;
2)聚酯薄膜纵向拉伸:将聚酯铸片经60~80℃温度的辊筒进行预热,再进入红外线加热器内进行加热,然后以25m/min线速度和3.5纵向拉伸倍率倍纵向拉伸形成膜片;
3)涂布液涂布:对膜片的一侧进行电晕处理,并将步骤1)配置的水性涂布液均匀涂覆在电晕面上,涂布液涂层的湿膜厚度为2.0μm;
4)聚酯薄膜横向拉伸:将步骤3)涂布后的膜片在100-130℃的温度下横拉预热,涂布液固化后,以5倍横向拉伸的倍率进行横向拉伸,在200-240℃温度下热定型处理和烘干固化,在50-70℃冷却后牵引收卷,制得低雾度聚酯薄膜。所述涂布液各组分按重量配比如下:
所述硅溶胶的粒径为50nm。
实施例2
所述低雾度聚酯薄膜的制备方法,包括如下步骤:
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