[发明专利]一种采用爆炸喷涂在烧结NdFeB表面制备Al涂层的方法有效

专利信息
申请号: 201410361184.4 申请日: 2014-07-25
公开(公告)号: CN104120377B 公开(公告)日: 2017-03-15
发明(设计)人: 周春根;马吉昭;刘晓芳 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: C23C4/08 分类号: C23C4/08;C23C4/126
代理公司: 北京永创新实专利事务所11121 代理人: 李有浩
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 采用 爆炸 喷涂 烧结 ndfeb 表面 制备 al 涂层 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种采用爆炸喷涂工艺在烧结NdFeB表面制备微米级Al涂层的方法。

背景技术

烧结NdFeB是迄今为止磁性最强的永磁材料,广泛地应用于电子、机电、仪表和医疗等诸多领域,是当今世界上发展最快,市场前景最好的永磁材料。但是烧结NdFeB材料的一个最明显的缺点是耐腐蚀性差,从而大大地限制了这类磁体在高温和潮湿等环境中的应用。

爆炸喷涂(detonation flame spraying)是以瞬间释放的高能量(爆炸能量)形成的热能将喷涂材料加热熔融,并使其加速而沉积到工件表面形成涂层的热喷涂工艺方法。爆炸喷涂的原理图如图1所示。

目前,提高NdFeB材料耐蚀性能的途径有合金化法和表面防护涂层法两种。NdFeB磁体的表面防腐蚀涂层主要有金属涂层、有机涂层和复合涂层。工业应用中较为广泛的为电镀Ni、Zn、Cu,化学镀Ni-P合金,离子镀Al,PVD镀TiN等。研究表明,纯Al镀层具有较好的防腐蚀性能,并在镀层与基体之间的界面上存在一个较窄的成分过渡区,提高了镀层/基体的结合强度,同时满足耐腐蚀、颜色、耐磨损、电绝缘等性能要求,因而具有良好的发展前景。但是现有的Al涂层技术仍存在着一些不足:均匀性差、结合力低、裂纹较高;且工艺复杂,成本较高;值得注意的是,电镀、化学镀和电泳等过程所遗留下来的废液中含有大量有毒物质,而且很难净化,其排放对生态环境十分不利。这一系列问题的解决,将有赖于新的Al涂层工艺的开发。

发明内容

本发明的目的是采用爆炸喷涂的方法在烧结NdFeB表面制备纯铝相的微米级Al涂层。该方法制备的Al涂层在盐溶液中形成Al2O3氧化膜层,能够有效提高烧结NdFeB基体的耐蚀性能。

本发明提出的一种采用爆炸喷涂在烧结NdFeB表面制备Al涂层的方法,其特征在于包括有下列步骤:

第一步:基体前处理

(A)采用未充磁的烧结NdFeB作为基体材料,硬度Hv=6.20,密度D为7.5~7.6;

将基体置于质量分数为99.7%的酒精中进行超声清洗以除油,超声频率为30~50KHz的条件下,超声清洗5~10 min后,自然凉干得到第一基体;

(B)对第一基体进行喷砂处理,得到粗糙度Ra=3~3.5的第二基体;

第二步:采用爆炸喷涂制备Al涂层

爆炸喷涂材料是粒度为300~400目的铝,所述铝的质量百分比纯度为99.99%;

将爆炸喷涂材料装入气体爆炸喷涂设备中;

将第二基体安装在夹具上;

调节气体爆炸喷涂工艺参数:氧和乙炔的气体流量比为1.0~1.3:1,工作频率为4~6次/秒,喷涂距离为100~140mm,炮口直径为20~25mm,N2送粉率为0.3~0.6克/秒,喷涂材料表面升温为100~200℃;制得16~20微米的Al涂层在烧结NdFeB表面。

本发明采用爆炸喷涂工艺制备Al涂层的优点在于:本发明方法制备的Al涂层与基体结合良好,涂层致密,厚度均匀,表面孔隙率低,仅为0.83%。在电化学测试研究中表明,在3.5wt%NaCl溶液中的腐蚀电流密度为1.301×10-5 A/cm2,仅为NdFeB基体的1/5,且在浸泡过程中不断形成Al2O3氧化膜层,可以有效保护烧结NdFeB基体,提高其耐蚀性。

附图说明

图1是爆炸喷涂的原理图。

图2是经实施例1方法在烧结NdFeB表面制得的Al涂层的截面形貌SEM图。

图3是经实施例1方法在烧结NdFeB表面制得的Al涂层与Al粉的XRD图谱对比。

图4是经实施例1方法在烧结NdFeB表面制得的Al涂层及N35在盐溶液中的动电位极化曲线对比。

图5是经实施例1方法在烧结NdFeB表面制得的Al涂层和N35在盐溶液中的奈奎斯特图对比。

具体实施方式

下面将结合附图和实施例对本发明做进一步的详细说明。

本发明是一种采用爆炸喷涂在烧结NdFeB表面制备Al涂层的方法,包括有下列步骤:

第一步:基体前处理

(A)采用未充磁的烧结NdFeB(N35)作为基体材料,硬度Hv=6.20,密度D为7.5~7.6;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京航空航天大学,未经北京航空航天大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410361184.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top