[发明专利]设计井筒完井层段

说明书

背景技术

本说明书涉及设计井筒完井层段。

在地下区域中对井筒钻井之后，使用完井程序来使井筒准备生 产。完井程序可以包括裂缝处理、稳定化处理、增产处理或施加于地 下区域的其它类型的处理。完井程序可以包括生产管、流量控制装置 和其它类型的完井工具的安装。

附图说明

图1是示例性井系统的图。

图2是示例性计算系统的图。

图3是用于完井分析和设计的示例性系统架构的图。

图4是示出从井系统数据推导的示例性关联数据的标绘图。

各个图式中的相同参考符号指示相同元件。

具体实施方式

图1是示例性井系统100的图。示例性井系统100包括界定在地 面106下方的地下区域102中的井筒110。示例性井系统100包括地 面106处的地面设备108。井系统100可包括额外或不同特征，且井 系统100的特征可如图1中所示般布置，或井系统100的特征可以另 一方式布置。图1中所示的示例性井筒110包括水平井筒。井系统可 以包括水平、垂直、倾斜、弯曲或其它井筒定向的任何组合。此外， 井系统可以包括多个交叉或不交叉井筒。

地下区域102可以包括所有或部分岩层(例如，页岩、煤炭、砂 石、花岗岩或其它)，其包括天然气、石油、其它碳氢化合物或其它 关注材料。图1中所示的示例性地下区域102包括储层，其包括碳氢 化合物资源，诸如石油、天然气、其它碳氢化合物等。地下区域102 可以包括自然裂开的岩石或未裂开到任何显著程度的自然岩层。地下 区域102可以包括致密天然气岩层，其包括低渗透率岩石(例如，页 岩、煤块或其它)。

示例性地下区域102包括多个地下层104a、104b、104c、104d、 104e。在图1中所示的实例中，每一地下层表示地下区域102中的不 同地层位置。例如，每一层可具有在层内大致上均匀切不同于相邻层 的石印性质。在一些实例中，地下层的典型石印性质包括岩石类型、 岩石孔隙率、岩石的裂缝密度、岩石的碳氢化合物含量或地下层中的 岩石的其它性质。例如，地下层104d可以包括具有碳氢化合物的自 然裂开的岩石，而层104c和104e可以包括较低量的碳氢化合物或较 低密度的自然裂缝等。

如图1中所示，示例性井筒110包括多个井筒层段112a、112b、 112c、112d、112e、112f、112g、112h、112i。井筒可包括任何数量 的井筒层段(例如，5、10、20、30、100个等)，且井筒层段的长度 可不断变化(例如，10英尺、20英尺、50英尺等)。在图1中所示 的实例中，每一井筒层段是井筒110的不同段。层段可由安装在井筒 110中的硬件、由井筒壁中的穿孔位置界定，或层段可以另一方式界 定。

在一些情况中，每一层段包括一个或多个穿孔、狭缝或将井筒连 接到储层的其它构件。例如，井筒110可以被加套或未加套，且井筒 外壳或井筒壁可被穿孔以进行射出处理、增产处理、生产或其它活动。 在一些情况中，每一层段是由层段边界处的封隔器或密封件界定。例 如，第一层段112a可以由层段112a的每一端处的一组封隔器界定， 第二层段112b可以由层段112b的每一端处的一组封隔器界定等。

井筒层段中的每一个驻留在地下区域102中的地层位置处。地层 位置可能是指其中驻留井筒层段的层或层的性质。在一些实例中，井 筒的两个或更多个层段驻留在不同的地层位置处。在图1中所示的实 例中，层段112a驻留在地下层104c中，层段112b驻留在地下层104c 和104d的界面处，且层段112d驻留在地下层104d中。在一些情况 中，井筒层段的地层位置指示包围井筒层段的层的石印性质、井筒层 段与相邻层之间的距离或其它信息。

井筒中的层段中的每一个可具有不同的完井层段属性。完井层段 属性可包括完井设备、完井技术或其施加于井筒层段以使层段准备生 产的参数。在一些情况中，所有井筒层段具有相同的完井层段属性。 在一些情况中，一些或所有井筒层段是根据不同的完井层段属性来完 井。给出井筒层段的完井层段属性可基于井筒层段的地层位置、生产 目标和其它考虑来调整或选择。