[发明专利]照明设备、透镜、系统和方法有效
申请号: | 201380049230.0 | 申请日: | 2013-09-13 |
公开(公告)号: | CN104641168B | 公开(公告)日: | 2018-11-13 |
发明(设计)人: | W.P.A.J.米奇尔斯;S.T.德兹瓦特;M.P.C.M.克里恩 | 申请(专利权)人: | 飞利浦灯具控股公司 |
主分类号: | F21V5/00 | 分类号: | F21V5/00;G02B5/04;G02B27/09;G02B27/12;F21S41/00;F21S41/275 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 初媛媛;景军平 |
地址: | 荷兰埃*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学设备 取向 照明设备 集合 刻面 透镜 操作期间 第一表面 法线矢量 交替的 光轴 光源 平行 关联 图案 延伸 | ||
1.包括至少4个光学设备的照明设备(1),每个光学设备具有相关联的光源,并且每个光学设备包括具有多个微小尺寸的刻面的第一表面,所述刻面具有25μm到250μm之间的尺寸,每个刻面具有相应的取向,所述多个刻面具有平行于所有所述相应的取向的平均取向的法线矢量延伸的光轴,
其特征在于所述光学设备被分成超过至少2个光学设备的集合,其中所述光学设备的集合由于其相应的取向而沿着相应的光轴对来自相关联的光源的光线进行重定向以在操作期间相互发出不同的图案,并且其中以相互交替方式布置不同集合的光学设备,
并且其中对于所有的光学设备,相邻光学设备的取向是不同的。
2.如权利要求1中要求保护的照明设备,其特征在于每个光学设备的集合被布置成在所述照明设备的操作期间显示所显示的图案中的子图案。
3.如权利要求1或2中要求保护的照明设备,其特征在于所述至少2个光学设备的集合具有相同的尺寸和/或形状。
4.如权利要求1或2中要求保护的照明设备,其特征在于所述至少2个光学设备的集合包括光学设备的第一集合和第二集合,并且其中所述第一集合中的相应的光学设备的数目和所述第二集合中的光学设备的数目之间的比值在1:1至1:10的范围内。
5.如权利要求1或2中要求保护的照明设备,其特征在于所述至少两个光学设备的集合被制成整块。
6.如权利要求5中要求保护的照明设备,其特征在于所述至少两个光学设备的集合由箔制成。
7.如权利要求5中要求保护的照明设备,其特征在于所述至少两个光学设备的集合由板制成。
8.如权利要求1或2中要求保护的照明设备(1),其特征在于所述照明设备是发光体,其中通过至少光学设备的第一集合发出窄束,并且通过至少光学设备的第二集合发出宽束。
9.如权利要求1或2中要求保护的照明设备(1),其特征在于所述照明设备是机车头灯,其中通过至少光学设备的第一集合发出弱束,并且通过至少光学设备的第二集合或者通过至少光学设备的第一集合和第二集合发出高束。
10.如权利要求1或2中要求保护的照明设备(1),其特征在于所述照明设备是灯/反射器单元,其可在通过至少光学设备的第一集合发出的第一方向上的至少第一束和通过至少光学设备的第二集合在不同于第一方向的第二方向上发出的第二束之间切换。
11.如权利要求1或2中要求保护的照明设备(1),其特征在于在操作期间所述光源(3)充当点光源或者平行光束(11)的生成器。
12.一种包括至少两个光学设备(13)的集合的透镜(43),每个光学设备具有相关联的光源,并且每个光学设备包括具有多个微小尺寸的刻面的第一表面,所述刻面具有25μm到250μm之间的尺寸,每个刻面具有相应的取向,所述多个刻面具有平行于所有所述相应的取向的平均取向的法线矢量延伸的光轴,
所述光学设备的集合由于其相应的取向而沿着相应的光轴对来自相关联的光源的光线进行重定向以在操作期间相互发出不同的图案,并且不同集合的光学设备以相互交替的方式被布置,并且
对于所有的光学设备,相邻光学设备的取向是不同的。
13.一种系统,包括多个如权利要求1至11中任一项要求保护的照明设备(1)或者如权利要求12中要求保护的透镜(43)。
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