[发明专利]微粒测量装置中的数据校正方法和微粒测量装置

说明书

提供一种技术，据此通过有效地校正由微粒的流道中的流动位置的不一致引起的测量误差能够高精确度地测量荧光和散射光的强度和光谱。提供一种微粒测量装置中的数据校正方法，包括：强度检测过程，允许通过将光照射在流过流道的微粒上来检测从微粒发射的光以获取光的强度信息；位置检测过程，用于获取微粒的位置信息；以及校正过程，用于基于位置信息校正强度信息。在数据校正方法的位置检测过程中，检测器接收从微粒发射的散射光中分离的像散S偏振分量，使得S偏振分量在检测器中的接收位置被获取为位置信息。

技术领域

本技术涉及用于微粒测量装置的数据校正方法和微粒测量装置。更具体地，本技术涉及，例如用于微粒测量装置的数据校正方法，该方法用于校正由微粒在形成在流动池、微芯片等中的流道中的流动位置的变化所引起的测量误差。

背景技术

已知的微粒测量装置形成包括形成在流动池、微芯片等中的流道中的微粒的层流(也称为鞘流)，将光发射在层流中的微粒上，并且检测从微粒产生的荧光和散射光。例如，流式细胞仪可以基于检测的荧光或者散射光的强度或者光谱测量和分析微粒的光学性能，诸如细胞和珠子。

在微粒测量装置中，形成层流使得微粒基本上在流道的中心流动，但是每个微粒在流道中的流动位置改变，并且因此，由这个变化所引起的测量误差成问题。为了减小进行测量花费的时间，在包括层流中的微粒的样品液体层流的流动速率被配置为大于鞘液层流的流动速率时，微粒在流道中的流动位置的变化和由这个变化所引起的测量误差尤其大。

在流道中的流动位置在微粒中改变时，微粒与用于微粒的光发射系统和从微粒产生的荧光和散射光的检测系统之间的光学而言的位置的关系在微粒中不同。因此，由光学位置的偏差所引起的测量误差出现在在每个微粒中检测的荧光和散射光的强度和光谱中。

专利文献1和专利文献2公开了用于抑制由微粒的流动位置的变化所引起的测量误差的技术。在专利文献1中描述的流动微粒分析装置中，通过四分部光电二极管、区域CCD等检测经由光学分隔器从前向散射光、侧向散射光或者反向散射光重新得到(retrieved)的检测光(散射光)。然后，从检测位置检测到激发光的中心和鞘流的中心之间的位置的偏差，并调节流动池的位置使得位置的这个偏差停在预定的范围内。专利文献2描述通过使用在从微粒产生的散射光中出现的偏振角变化和调节激发光的焦点位置或者流动池的位置检测关于微粒的位置信息的技术。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：JP 9-166541A

专利文献2：JP 2011-149822A

发明内容

本发明要解决的问题

在从微粒产生的荧光作为光谱进行测量时，由于微粒的流动位置的变化导致的测量误差成问题。从微粒产生的荧光被使用分光器件，诸如棱镜和光栅镜分为光谱。然后，荧光的光谱通过具有以一维方式布置的PMT、光电二极管等的光接收器件阵列和诸如CCD和CMOS的二维光接收器件检测。在这时候，在微粒的流动位置改变时，入射到布置在光接收器件阵列或者二维光接收器件中的多个独立的检测流道之一上的荧光的波长范围可能在微粒中不同。

更具体地，从微粒k投影在检测流道n上的荧光的波长范围是λ_k至λ_k+1时，从流道中的流动位置不同于微粒k的流动位置的从微粒l投影的荧光的波长范围是λ_l至λ_l+1，并且(λ_k，λ_k+1)和(λ_l，λ_l+1)的值可能是不同的。因此，检测每个微粒的荧光光谱可能涉及由入射到检测流道n上的荧光的波长范围的偏差所引起的测量误差。

本技术的主要目的是提供能够通过有效地校正由于微粒在流道中的流动位置的变化而出现的测量误差来高度准确地测量荧光和散射光的强度和光谱的技术。