[发明专利]井下设备有效
申请号: | 201380023121.1 | 申请日: | 2013-03-07 |
公开(公告)号: | CN104395552B | 公开(公告)日: | 2018-05-18 |
发明(设计)人: | 斯蒂芬·艾德蒙·布鲁斯;斯蒂芬·肯特;多米尼克·帕特里克·约瑟夫·麦卡恩;大卫·艾伦·诺布尔特;大卫·格兰特;尤恩·科林·史密斯 | 申请(专利权)人: | 达西科技有限公司 |
主分类号: | E21B34/10 | 分类号: | E21B34/10;E21B43/12;E21B43/08 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 丁晓峰 |
地址: | 英国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 井下 设备 | ||
一种井下设备,包括:管状主体(34a,b);在主体(34a)的壁内的第一端口和第二端口(36,38);以及流体压力响应阀装置,该流体压力响应阀装置具有:与第一压力相关联的锁定的第一配置,其中第一端口(36)被打开而第二端口(38)被关闭;与高于第一压力的第二压力相关联的解锁的第二配置,其中第一端口(36)被打开而第二端口(38)被关闭;以及与低于第二压力的第三压力相关联的第三配置,其中第二端口(38)被打开并且第一端口(36)被关闭。
技术领域
本发明涉及井下设备,并且具体地但非排他性地,本发明涉及诸如砂筛的流动控制设备以及相关联的设备和方法。
背景技术
WO2009/001089和WO2009/001073描述了用于支撑井眼壁以及用于将预定的压力施加到井眼壁的装置,其公开内容以其全文引用并入本文。可膨胀的腔室安装于中心管上,这样腔室的膨胀增加组合件的直径。腔室可支撑砂控制元件。
发明内容
根据本发明,提供一种井下设备,该设备包括:
管状主体;
在主体壁内的第一端口和第二端口;以及
流体压力响应阀装置,该流体压力响应阀装置具有与第一压力相关联的锁定的第一配置,其中第一端口被打开并且第二端口被关闭;与高于第一压力的第二压力相关联的解锁的第二配置,其中第一端口被打开并且第二端口被关闭;以及与低于第二压力的第三压力相关联的第三配置,其中第二端口被打开。
根据本发明的另一方面,提供一种流动控制方法,该方法包括:
将第一压力施加到控制管状主体的壁中的第一端口和第二端口配置的流体压力响应阀装置,由此阀装置保持锁定的第一配置,其中第一端口被打开并且第二端口被关闭;
施加高于第一压力的第二压力,由此阀装置呈现解锁的第二配置,其中第一端口被打开并且第二端口被关闭;以及
施加低于第二压力的第三压力,由此阀装置呈现第三配置,其中第二端口被打开。
阀装置的配置可以任何合适的顺序改变,例如先是第一配置,随后第二配置,然后是第三配置。可替换地,可先是第三配置,随后是第二配置,然后是第一配置。
锁定的第一配置可为适于阀装置的初始配置。从而,例如,在第一配置下设备可进入到井眼内。
在第三配置下第一端口可被关闭。
第一端口可包括止回阀,其在阀两端之间不存在正压力差的情况下关闭第一端口。
阀装置可包括阀构件,在第一配置和第二配置下阀构件关闭第二端口。在第三配置下阀构件可关闭第一端口。阀构件可采取任何适当的形式,并且可以是套筒。阀构件可朝向打开第二端口的位置偏置。
阀装置可通过锁定装置锁定在第一配置下,锁定装置可包括可释放的保持构件,诸如剪切销。保持构件可保持阀构件处于相对于主体的第一配置下。
阀装置可包括一个以上的锁定装置,例如当阀装置处于第三配置下时,阀装置的元件可被锁定在位。
阀装置可限定差动活塞。一个活塞面可暴露于管内压力下并且第二活塞面可暴露于外部压力下,例如环空压力。因此,管和环之间的正压力差将导致作用于活塞上的流体压力。
活塞可被容纳在腔室内,所述腔室具有一个提供与外部压力流体连通的端口。该端口可定尺寸成或以其它方式配置成在穿过端口的流体中引起压力降。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于达西科技有限公司,未经达西科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380023121.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:改进的合成
- 下一篇:用于治疗缺血再灌注相关疾病的化合物