[实用新型]远红外加热搅拌反应釜

说明书

技术领域

本实用新型涉及反应釜，具体涉及一种可均匀加热，并不会对环境造成污染的远红外加热搅拌反应釜。

背景技术

 反应釜是化工生产中的主要反应搅拌设备；主要功能是使物料搅拌混合均匀、化学反应、溶解、结晶、传热、冷却等。

常规的反应釜需要加热时，常常采用外置加热装置靠近反应釜体，对反应釜体进行加热，这种加热方式使得反应釜体局部温度较高，而其它部位温度较低，反应釜体内的液体反应物加热不均，反应发生的效率低下。

由于加热不均匀，采用搅拌机带动搅拌轴转动，使反应釜内的液体随着搅拌轴的转动，以期达到搅拌均匀的效果。然而反应釜搅拌轴转动过程中造成液体旋转产生离心力，使反应釜中间产生旋涡，气体容易跑出反应釜进入大气中，对气液反应很不利，造成气体原料的严重浪费，甚至造成周围环境的污染，带来了新的问题。

发明内容

本实用新型的目的是为了克服上述缺陷，提供一种加热均匀，提高反应发生的效率，同时可有效降低旋涡深度并使反应釜液面产生紊流利于分子碰撞，便于反应并减少气体的浪费，且并不会对环境造成污染的的远红外加热搅拌反应釜。

为实现上述目的，本实用新型设计的一种远红外加热搅拌反应釜，包括从上至下依次设置的反应釜体、反应釜盖和底壳，其特别之处在于：所述反应釜盖呈半球形，倒扣在所述反应釜体上方，所述底壳呈半球形，扣合在反应釜体下方，所述反应釜盖壁上设有进料口；所述反应釜盖上方设置有电机，所述电机的输出轴连接有变速器，所述变速器的输出轴连接有搅拌器，所述搅拌器位于反应釜体腔内，所述变速器与所述反应釜盖的连接处设有密封填料；所述反应釜盖壁上设有刮液杆，所述刮液杆伸入反应釜体腔内高度2/3处，所述刮液杆底端设置有刮液板；所述反应釜体外侧设有加热器壳体，所述反应釜体与加热器壳体之间由内至外依次设置有碳化硅板层、保温层、辐射屏蔽层，所述辐射屏蔽层和保温层之间设置有电阻带，所述加热器壳体上设置有接线电极，所述接线电极与电阻带连接。

在上述技术方案中，所述保温层的上方罩设有一圈防水罩，所述防水罩通过固定法兰固定在反应釜体上，防止外部雨水直接侵蚀，避免渗水。

在上述技术方案中，保温层的下部通过壳体环固定在底壳的上部，可以加固远红外加热层，提高加热效率，发射率高、机械强度好。

本实用新型采用远红外辐射加热，即通过电阻产生热能，利用“碳化硅”作导热体，利用了碳化硅具备导热系数高、绝缘性强、机械强度高、不易老化、能产生较高的远红外光谱的特性进行加热，为反应釜内的被加热物体所吸收，保温层能够将热量储存在反应釜体腔内而不易被潮气吸收，从而将热能留在反应釜内，从而提高了反应釜的温度，增强了被加热物体的热能吸收速度；减少了热能损失，达到节能的目的。

本实用新型在反应釜体的外设置能够包覆住反应釜体的碳化硅板层、保温层、辐射屏蔽层，屏蔽层有效屏蔽了远红外层产生的红外线向外辐射，避免了对环境造成污染。

此外，本实用新型的在位于釜体腔内高度的2/3处加装了刮液板，反应釜搅拌轴转动过程中造成液体旋转产生离心力，使反应釜中间产生的旋涡在刮液板的阻挡作用下，旋涡的深度向反应釜体腔内底部转移，有效降低旋涡的深度，反应釜液面产生紊流利于搅拌过程中分子的碰撞，便于反应的进行，减少气体浪费，缩短反应时间，降低了生成成本，减少对反应釜周围环境的污染。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图中：1-反应釜体；2-反应釜盖；3-防水罩；4- 固定法兰；5-碳化硅板层；6-电阻带；7-保温层；8-辐射屏蔽层；9-加热器壳体；10-接线电极；11-壳体环；12-底壳，13-进料口；14-电机；15-变速器；16-搅拌器；17-刮液杆；18-刮液板；19-密封填料。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步的详细描述：