[实用新型]数字化密集点云扫描装置有效
申请号: | 201320589034.X | 申请日: | 2013-09-23 |
公开(公告)号: | CN203479268U | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 唐正宗;梁晋;胡浩 | 申请(专利权)人: | 西安新拓三维光测科技有限公司 |
主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 710054 陕西省西安市雁塔区*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 数字化 密集 扫描 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种光学测量仪器,特别涉及一种数字化密集点云扫描装置。
背景技术
随着现代工业制造水平的发展,产品零件大量采用不规则复杂曲面,其设计、生产、检测、试验等环节需要进行大量的三维曲面实体数字化和三维测量。常用的测量方法分为接触式和非接触式两类。接触式测量设备中被广泛应用的是三坐标测量机。它具有测量精度高、适应性强的优点,缺点是采集数据点过少,测量效率低,应用环境苛求,因探头接触造成磨损而常常需要校正。非接触式测量按类可分为激光三角法、结构光法、工业CT法、核磁共振法。
数字化密集点云扫描装置基于结构光法测量原理,是一种高速高精度的非接触式三维扫描测量设备,采用目前国际最先进的外差式多频相移三维光学测量技术,单次扫描幅面大小32mm~3m、与传统的格雷码加相移方法相比,测量精度更高、抗干扰能力更强、受被测工件表面阴暗影响更小,并且能够测量表面剧烈变化的工件。然而,现有的扫描装置中光栅投影仪调节旋钮是外露的,在使用过程中容易出现误操作,影响测量的准确性和效率。
实用新型内容
针对现有技术的不足,本实用新型的目的是提供一种灵活高效的数字化密集点云扫描装置。
为达上述目的,本实用新型采用如下的技术方案:
一种数字化密集点云扫描装置,包括2个工业CCD相机、1套光栅投影仪、1个投影仪外壳、1个投影仪外壳滑盖和1根支撑横梁,该投影仪居中安装在支撑横梁上,2个工业CCD相机通过水平转块分别紧固到支撑横梁两端,其特征在于:
投影仪外壳的顶面设置有沿投影方向且相互平行间隔预定距离的两个滑槽,投影仪外壳滑盖的内顶面设置有与该两个滑槽的位置对应的两个滑动块,该两个滑槽与该两个滑动块构成两对滑动副,使得投影仪外壳和投影仪外壳滑盖之间可相对滑动;
其中,投影仪外壳滑盖处于关闭状态时,将位于投影仪外壳顶面的投影仪调节旋钮隐藏起来,通过滑动投影仪外壳滑盖可使该调节旋钮显露出来,以便调节投影仪。
与现有技术相比,本实用新型具有的有益效果:采用滑动设计使投影仪焦距调节更加方便,并巧妙地将调节旋钮隐藏起来,避免了可能的误操作,为测量工作带来方便,提高了设备的工作效率。
附图说明
图1是本实用新型装置的结构外观图;
图2是本实用新型投影仪外壳结构图;
图3是本实用新型投影仪外壳滑盖结构图;
图4是本实用新型滑盖滑动示意图;
图5是本实用新型投影仪焦距调节示意图。
具体实施方式
下面结合实施例及附图对本实用新型作进一步详细的描述,但本实用新型的实施方式不限于此。
如图1所示,本实用新型为一种数字化密集点云扫描装置,包括2个工业CCD相机1,5、1套光栅投影仪3、1个投影仪外壳2、1个投影仪外壳滑盖4和1根支撑横梁6。
如图2、3所示,投影仪外壳2的顶面设置有沿投影方向且相互平行间隔预定距离的两个滑槽,投影仪外壳滑盖4的内顶面设置有与该两个滑槽的位置对应的两个滑动块,该两个滑槽与该两个滑动块构成两对滑动副,使得投影仪外壳2和投影仪外壳滑盖4之间可进行相对滑动。
如图4和图5所示,投影仪外壳滑盖4处于关闭状态时,将位于投影仪外壳2顶面的投影仪调节旋钮隐藏起来,通过滑动投影仪外壳滑盖4可使该调节旋钮显露出来。因此,打开投影仪外壳滑盖4即可调节投影仪焦距,不用时则可以很方便地通过关上滑盖4将位于投影仪外壳2顶面的投影仪调节旋钮隐藏起来,以避免可能的误操作。该投影仪3居中安装在支撑横梁6上,其中投影仪外壳2通过螺栓与光栅发射器底面板固定,投影仪外壳滑盖4扣在投影仪外壳2上。
优选地,投影仪外壳滑盖4的外顶面还设置有把手,以方便用户进行滑动操作。该把手可以与投影仪外壳滑盖4一体成型,也可以通过紧固螺栓与投影仪外壳滑盖4连接。
进一步,所述投影仪外壳2和滑盖4均为ABS树脂结构,强度高、表面性好、耐热、耐冲击。
所述工业CCD相机1,5通过内六角螺栓固定于相机壳内,并通过水平转块紧固到支撑横梁6两端。相机的有效分辨率为1024像素×1024像素~4096像素×4096像素,配置的镜头焦距范围为8毫米~35毫米。
上述实施例仅为本实用新型的较佳实施例,并非用来限定本实用新型的实施范围。即凡依本实用新型内容所作的均等变化与修饰,或简单的推演与替换,都应当视为属于本实用新型权利要求书所确定的专利保护范围。
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