[实用新型]一种印染纺织废水处理与回用装置有效
申请号: | 201320545000.0 | 申请日: | 2013-09-03 |
公开(公告)号: | CN203474587U | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 赵纲 | 申请(专利权)人: | 苏州市瑞华水处理工程有限公司 |
主分类号: | C02F9/14 | 分类号: | C02F9/14;C02F103/30 |
代理公司: | 北京康盛知识产权代理有限公司 11331 | 代理人: | 伊美年 |
地址: | 215000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 印染 纺织 废水处理 装置 | ||
技术领域
本实用新型属于工业废水处理与回用领域,具体涉及一种印染纺织废水处理与回用装置。
背景技术
据有关部门统计,纺织印染工业废水的排放量高居全国工业部门第三位。除排放量大之外,纺织印染工业废水还具有色度深、难降解的有机物含量高、水质不稳定等特点,因此属于难处理工业废水。另一方面,印染纺织工业用水量大,若全部使用自来水,将极大浪费日益缺少的水资源。
实用新型内容
本实用新型提供一种印染纺织废水处理与回用装置,能够稳定处理印染纺织废水,出水部分可以回用,其余部分可以达标排放,能够大大节约水资源,且减少城市污水处理厂的负荷。
为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种印染纺织废水处理与回用装置,包括调节池,印染纺织废水流入该调节池,该调节池再依次管连接混凝池、第一曝气生物滤池、臭氧水池、第二曝气生物滤池、中间水池、第一砂滤罐、第一保安过滤器、超滤系统、第二砂滤罐、第二保安过滤器和反渗透膜系统;
所述反渗透膜系统的净水出水管与印染工艺进水管连接,反渗透膜系统的浓缩水出水管与城市排水系统连接。
进一步的,所述第一曝气生物滤池、臭氧水池和第二曝气生物滤池均设有反冲洗系统,反冲洗排水均流入一砂滤池中,该砂滤池的出水口连接所述调节池的进水口。
本实用新型的工作原理:印染纺织废水流入调节池,调节池调节水质水量,调节池出水流入混凝池,混凝除去部分有机物和胶体,混凝池出水进入第一曝气生物滤池,生化作用初步降解水中的有机物和氨氮,第一曝气生物滤池出水进入臭氧水池,可氧化去除水中难以生物降解的大分子有机物,臭氧水池出水进入第二曝气生物滤池,进一步除去有机物和氨氮,第二曝气生物滤池出水经第一砂滤罐和第一保安过滤器除去颗粒物,进入超滤系统,超滤系统出水经第二砂滤罐和第二保安过滤器进入反渗透膜系统,可完全除去水中的无机盐、重金属离子、有机物、胶体、细菌、病毒等杂质,反渗透膜系统的净水出水管与印染工艺进水管连接,可回用于工艺用水,反渗透膜系统的浓缩水出水管与城市排水系统连接,排放。其中,第一曝气生物滤池-臭氧水池-第二曝气生物滤池为超滤系统和反渗透膜系统提供稳定可靠进水,使反渗透膜系统净水出水可满足印染工艺用水要求,反渗透膜滤浓缩液的有机物、悬浮物、色度等指标均满足排放要求。
曝气生物滤池(简称BAF),是集生物氧化和截留悬浮固体为一体的新工艺,该工艺具有去除SS、COD、BOD、硝化、脱氮、除磷、去除AOX(有害物质)的作用。反渗透膜技术是利用压力表差为动力的膜分离过滤技术,广泛运用于科研、医药、食品、饮料、海水淡化等领域。
本实用新型的有益效果:本方案能够稳定处理印染纺织废水,处理出水大部分可以回用,其余小部分可以达标排放,能够大大节约水资源,且减少城市污水处理厂的负荷,具有显著的经济效益。
附图说明
图1为本实用新型一种印染纺织废水处理与回用装置实施例的原理示意图。
以上附图中:1. 调节池;2. 混凝池;3. 第一曝气生物滤池;4. 臭氧水池;5. 第二曝气生物滤池;6. 中间水池;7. 第一砂滤罐;8. 第一保安过滤器;9. 超滤系统;10. 第二砂滤罐;11. 第二保安过滤器;12. 反渗透膜系统;13. 砂滤池。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述:
实施例:参见图1所示,一种印染纺织废水处理与回用装置,包括调节池1,印染纺织废水流入该调节池1,该调节池1再依次管连接混凝池2、第一曝气生物滤池3、臭氧水池4、第二曝气生物滤池5、中间水池6、第一砂滤罐7、第一保安过滤器8、超滤系统9、第二砂滤罐10、第二保安过滤器11和反渗透膜系统12;
所述反渗透膜系统12的净水出水管与印染工艺进水管连接,反渗透膜系统12的浓缩水出水管与城市排水系统连接。
所述第一曝气生物滤池3、臭氧水池4和第二曝气生物滤池5均设有反冲洗系统,反冲洗排水均流入一砂滤池13中,该砂滤池13的出水口连接所述调节池1的进水口。
上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
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