[实用新型]多点气氛感测系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种感测系统，特别是涉及一种多点气氛感测系统。

背景技术

一般的液晶显示器的透明基板上形成有用于控制液晶层的薄膜晶体管（TFT；Thin film transistor）。薄膜晶体管以往是以非晶硅为材料制成。目前相关技术逐渐采用IGZO（Indium Gallium Zinc Oxide；氧化铟镓锌）为材料制成，其优点为晶体管尺寸缩小、提高液晶面板画素的开口率、电子迁移率较快、耗电量较低及光穿透率提高等。IGZO薄膜制程需于特定的环境下完成，此环境在湿度、制程气体浓度及温度上须符合一定的制程要求。特别是在多片透明基板同时进行IGZO薄膜制程时，环境中的水蒸气及制程气体需分布均匀，才能让所述透明基板的制程效果一致。因此，本案发明人思及，若能发展出一种能侦测装置内制程气体分布状况及湿度的系统，即能有效地控制装置内的环境，将有助于提高薄膜制程的良率。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种侦测多个侦测点的气氛感测系统。

本实用新型多点气氛感测系统，适于设置在一热处理机上，该热处理机具有一反应室。

本实用新型所述多点气氛感测系统包含一气体分析装置、多个气体收集装置，及一控制装置。该气体分析装置用于分析气体的成分及状态。每一气体收集装置包括一风门及一气体收集管。所述风门分别设置于该热处理机上。每一风门具有一进气口，及一出气口。所述出气口分别连通于该气体分析装置。当任一风门接收到一开启讯号，会将该进气口连通于该出气口并维持一开启时间后，再使该进气口不连通于该出气口。每一气体收集管具有一第一端，及一相反于该第一端的第二端。所述第一端分别连通于对应风门的进气口。所述气体收集管的第二端分别位于该反应室内不同位置。该控制装置连接于所述风门，一次对其中一风门传送该开启讯号，使对应的气体收集管经对应的风门的进气口及出气口而连通于该气体分析装置，将该反应室内对应位置的气体导至该气体分析装置进行分析。

较佳地，该气体分析装置包括一用于分析气体的成分及状态的气体分析单元，及一设置于该热处理机上并与该气体分析单元连通的集流阀。所述风门的出气口分别连通于该集流阀，当该控制装置对其中一风门传送该开启讯号，使对应的气体收集管经对应的风门及该集流阀而连通于该气体分析单元。

较佳地，该气体分析单元设置于该热处理机上。

较佳地，该气体分析单元独立装设于该热处理机的一侧边。

本实用新型的有益效果在于：通过气体收集装置的所述风门及所述气体收集管的设置，将反应室内各点的气体配合该控制装置一次对其中一个风门传送开启讯号而分次导至该气体分析单元，所以仅以一个气体分析单元即能分析该反应室内各点气体的成分及状态。

附图说明

图1是一前视图，说明本实用新型多点气氛感测系统的一较佳实施例；

图2是一俯视图，说明该较佳实施例；

图3是一立体图，说明该较佳实施例的一风门包括一进气口及一出气口；及

图4是一侧视图，说明该较佳实施例的多个气体收集管连通于一反应室的不同位置。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本实用新型进行详细说明。

参阅图1与图2，本实用新型多点气氛感测系统的一较佳实施例适于设置在一热处理机1上，该热处理机1具有一反应室10。本较佳实施例包含一气体分析装置2、多个气体收集装置3，及一控制装置（图未示）。

气体分析装置2，包括一气体分析单元21，及一与该气体分析单元21连通的集流阀22。气体分析单元21用于分析气体的成分及湿度、温度等状态，且设置于该热处理机1上或独立装设在热处理机1的一侧边。

参阅图1至图3，所述气体收集装置3分别设置于热处理机1上。每一气体收集装置3包括一风门31，及一气体收集管32。所述风门31，分别设置于该热处理机1上。每一风门31具有一进气口311，及一出气口312。所述出气口312分别连通于该气体分析装置2的集流阀22。每一气体收集管32包括一第一端321及一相反于该第一端321的第二端322。所述第一端321分别连通于对应的进气口311，所述第二端322则分别位于反应室10内不同位置。

本较佳实施例中，所述气体收集装置3共有十八个，且如图2所示，分为两组分设在该反应室10上方的两侧，每一组的气体收集管32的第二端322如图4所示呈阵列状排列而分别位于该反应室10的九个不同位置。因此，本较佳实施例中的所述气体收集装置3对应了反应室10中十八个不同的位置。