[实用新型]一种产水电阻率大于18MΩ·cm的超纯水装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种产水电阻率大于18MΩ·cm的超纯水装置。 

背景技术

在太阳能光伏行业需要超纯水设备--单／多晶硅、硅片切割、太阳能电池、半导体硅材料工艺超纯水。 

在电子工业需要超纯水设备--半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装、引线框架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件、电容器洁净产品及各种元器、件等生产工艺用超纯水。 

在国防科技中尖端的工业生产，如航空工业，他们因研究的需要，要模拟万米以上的高空环境，这样就需要超纯水的水来制造云层或近地太空环境。 

在国家支持的尖端生物研究，比方说很多保密的免疫疫苗生产、尖端药物研究、大型的超洁净实验室等，这些都要求水中不含有任何的杂质的超纯水。 

生产与光有关的企业，如相机镜头、高级镜片、微观环境显示灯等，都要用到超纯的水来进行冲刷，这样的行业比较闭塞，需要有十足的客户资源才能做好。 

实用新型内容

本实用新型的目的就是为了解决上述问题，提供一种产水电阻率大于18MΩ·cm的超纯水装置。 

为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案： 

一种产水电阻率大于18MΩ·cm的超纯水装置，其特征在于，包括： 

二级RO水箱（1）； 

脱气膜装置（3）； 

UV元件（2），其安装于二级RO水箱与脱气膜装置之间的输送管路； 

EDI装置（4），其接于脱气膜装置的出口端； 

氮封水箱（5），其接于EDI装置的出口端； 

抛光混床（6），其接于氮封水箱的出口端； 

终端超滤器（8），其安装于超纯水设备的末端； 

UV杀菌装置（7），其安装于抛光混床与终端超滤器之间的输送管路； 

所述终端超滤器与氮封水箱之间设有循环回路管道。 

进一步，所述UV元件的波长为185nm，185nm紫外线去除水中的有机物原理如下列反应式：  

TOC+ UV→ CO₂ + H₂O。 

利用紫外射线将水中的碳水化合物的碳键打断，在足够的照射剂量照射下，绝大部分有机物被分解成CO₂和H₂O, CO₂被脱气膜装置除去，水中残留TOC降至ppb级,而其它被离子化的物质，接下来由后续工艺设备吸附净化。 

进一步，所述UV杀菌装置波长为254nm的紫外线杀菌器。 

进一步，超纯水设备的输送管路采用不锈钢制成。 

进一步，所述循环回路管道采用PVDF管道。 

本实用新型具有如下有益效果： 

1、由于整套系统中增加185UV除TOC装置和脱气膜装置，并且循环回路管道采用PVDF洁净管道，保证超纯水的所有用水点水质大于18MΩ·cm。 

2、整个超纯水设备不仅仅能够产出高质量的超纯水，而且采用循环回路设计，能够有效的对于设备中的超纯水进行保存。 

3、保证所有用水点>18MΩ·cm，短时间能达到18.2 MΩ·cm理论 值。 

4、由于反渗透膜无法滤除水中溶解的CO₂、O₂和其他气体，在反渗透系统后专门设计脱气膜装置，它对水中的CO₂脱出率可达到85%以上，同时对DO也有很高的脱除率。 

附图说明

图1为一种产水电阻率大于18MΩ·cm的超纯水装置结构示意图。 

具体实施方式

为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本实用新型。 

如图1所示，一种产水电阻率大于18MΩ·cm的超纯水装置，其包括：二级RO水箱1；脱气膜装置3；UV元件2，其安装于二级RO水箱与脱气膜装置之间的输送管路；EDI装置4，其接于脱气膜装置的出口端；氮封水箱5，其接于EDI装置的出口端；抛光混床6，其接于氮封水箱的出口端；终端超滤器8，其安装于超纯水设备的末端；UV杀菌装置7，其安装于抛光混床与终端超滤器之间的输送管路；所述终端超滤器与氮封水箱之间设有循环回路管道9，所述循环回路管道采用PVDF管道，至用水点的所有超纯水再循环进入氮封水箱，确保用水点水质指标大于18MΩ·cm。