[实用新型]一种烟气脱硝工艺中还原剂制备优化装置有效
申请号: | 201320253721.4 | 申请日: | 2013-05-06 |
公开(公告)号: | CN203329622U | 公开(公告)日: | 2013-12-11 |
发明(设计)人: | 曹薇;陈立刚;王志强;黄学科;刘强;菅立川;张骋;杨品 | 申请(专利权)人: | 北京佰能蓝天科技有限公司 |
主分类号: | B01D53/86 | 分类号: | B01D53/86;B01D53/56 |
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地址: | 100096 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 烟气 工艺 还原剂 制备 优化 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及烟气脱硝领域,尤其涉及以液氨做为还原剂的烟气脱硝设备。
背景技术
氮氧化物(NO、NO2,简称NOx),是当今最主要的大气污染物之一,对人体及生产环境都有极大的危害。大气中的氮氧化物主要来源于火电、钢铁、交通运输等行业的排放,为防止这些行业产生的氮氧化物污染环境,应进行脱硝处理将氮氧化物还原为无污染产物。
目前,烟气脱硝技术是使NOx在形成后被净化,主要有选择性催化还原(SCR)、选择性非催化还原(SNCR)、SCR/SNCR联合技术等成熟技术。SCR脱硝技术是目前众多烟气脱硝技术中应用最多、效率最高的技术之一。SCR烟气脱硝技术是在一定的温度和催化剂作用下,还原剂有选择地把烟气中的NOx还原为无毒无污染的N2和H2O。SCR系统一般由氨的储存制备系统、氨气喷入系统、催化剂系统等组成。
SCR脱硝工艺的关键是还原剂的选择,目前常用的有液氨法、尿素法、氨水法。其中液氨法由于投资和运行成本较低而得到较广泛的应用。在此,我们以液氨法为例,对还原剂的制备系统进行介绍。还原剂(NH3)制备系统主要设备有液氨槽车、卸氨压缩机、液氨储罐、液氨蒸发器、缓冲罐等。还原剂的制备主要是通过卸氨压缩机将槽车内的液氨输送到液氨储罐内,随后储罐内的液氨进入液氨蒸发器,液氨经过液氨蒸发器蒸发为氨气后进入缓冲罐,其作用是对氨气进行一个缓冲作用,保证了氨气有一个稳定的压力。
由于液氨是低沸点物质,因此液氨储罐内还有相当一部分气态氨,通常此部分气态氨未经利用直接通过卸氨压缩机进入槽车内,在一定程度上造成了浪费。
发明内容
为解决上述中存在的问题与缺陷,本实用新型提供了一种对液氨储罐内气态氨进行优化利用的装置,该装置在保证了液氨储罐内液氨经液氨蒸发器蒸发产生所需氨的条件下,有效利用了液氨储罐内的气态氨,在一定程度上减少了液氨蒸发器内蒸汽的消耗量,降低了脱硝工艺中还原剂区的运行成本。
所述技术方案如下:
一种对液氨储罐内气态氨利用装置,包括:液氨槽车、卸氨压缩机、液氨储罐、液氨蒸发器、氨缓冲罐、气态氨调节处理装置,最终产生的氨经氨缓冲罐缓冲后与空气进行混合后送入脱硝催化剂系统。
本实用新型提供的技术方案的有益效果是:
在保证液氨储罐内液氨进入液氨蒸发器产生所需氨的情况下,对液氨储罐内的气态氨进行了有效的利用,在未增加蒸汽消耗量的条件下,增加了氨产量。不仅对液氨进行合理利用,而且,大大降低了氨制备系统的运行成本,实现了提高液氨利用率和经济价值的双赢。
附图说明
图1是对液氨储罐内气态氨利用的装置结构示意图。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本实用新型实施方式作进一步地详细描述:
如图1所示,展示了对液氨储罐内气态氨利用装置结构,包括液氨槽车1、卸氨压缩机2、液氨储罐3、液氨蒸发器4、氨缓冲罐5、液氨储罐内气氨调节处理装置6。
上述装置中,脱硝所用氨一方面通过常规的液氨蒸发汽化制备,包括卸氨压缩机2、液 氨储罐3、液氨蒸发器4、氨缓冲罐5。另一方面将液氨储罐内气态氨通过调节处理装置6制备。
上述装置中,调节处理设备6通过管道分别与液氨储罐及氨缓冲罐进行连接。
上述装置中,调节处理设备6内装有减压装置、电动阀等装置,用以调节气态氨的参数,以保障进入液氨储罐内的氨参数与所需相一致。
本实施例的实施过程为,卸氨压缩机2把液氨从液氨槽车1中转移到液氨储罐3内,随后液氨进入液氨蒸发器4,在温水作用下汽化,产生的气氨进入缓冲罐5内缓冲;液氨储罐3内气氨一部分通过卸氨压缩机2进入槽车1内,另一部分直接引出,通过管道进入气氨调节处理装置6,经处理后进入氨缓冲罐5与通过蒸发汽化得到的氨混合,最后与空气混合进入脱硝催化剂系统。
上述装置中气氨调节处理装置6,实现了对液氨储罐3内部气态氨的直接利用,在保持蒸汽耗量不变的情况下,增加了氨的产生量。
上述系统中由于气氨调节处理装置6使得液氨储罐3内部气氨不断输出,在一定程度上加大了储罐内液氨汽化速率,使得氨的产量增加。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,并不用于限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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