[实用新型]一种具有高反射率镜面图案、文字的玻璃有效
申请号: | 201320176719.1 | 申请日: | 2013-04-10 |
公开(公告)号: | CN203159471U | 公开(公告)日: | 2013-08-28 |
发明(设计)人: | 孙大海;孟劲;吴斌 | 申请(专利权)人: | 上海耀皮玻璃集团股份有限公司;上海耀皮工程玻璃有限公司 |
主分类号: | C03C17/34 | 分类号: | C03C17/34 |
代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人: | 左祝安 |
地址: | 201204 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 反射率 图案 文字 玻璃 | ||
技术领域
本实用新型涉及玻璃深加工技术领域,特别涉及一种具有高反射率镜面图案、文字的玻璃。
背景技术
目前现有的印镜面图案的有镜面效果的玻璃加工方法分间接法和直接法两种。
间接法有:在玻璃上局部贴覆临时保护膜后,采用喷砂、酸蚀方式;或先在玻璃上局部涂上有机釉料后,整版镀膜后将有机釉料部分烧蚀后,得到剩余部分图案。
直接法:有低温镜面釉料直接印刷、高温镜面釉料直接印刷。
以上方法往往因图案和玻璃的附着性能不佳、反射率偏低、以及对生产环境、设备的依赖性和环境友好性等方面各有一定的局限性,而存在种种不足。
实用新型内容
针对上述问题,本实用新型提供一种具有高反射率镜面图案、文字的玻璃,以解决现有技术中的图案反射率差的问题。
为了实现上述目的,本实用新型的技术方案如下:
一种具有高反射率镜面图案、文字的玻璃,其特征在于,包括玻璃本体,所述玻璃本体上设置有高反射率镜面图案、文字层,所述高反射率镜面图案、文字层由通过磁控溅射工艺加工得到的附着层、反射层、表面保护层组成。
在本实用新型的一个优选实施例中,所述玻璃本体为单片玻璃,所述高反射率镜面图案、文字层设置在其表面。
在本实用新型的一个优选实施例中,所述玻璃本体为夹层玻璃,包括两片或两片以上的玻璃,所述玻璃与玻璃之间通过中间膜粘贴在一起,所述高反射率镜面图案、文字层设置在任意玻璃表面上。
本实用新型目标图案具备高反射率,可在室内使用环境下正常使用,图案和玻璃的附着性能佳,可耐中性水清洗。
本实用新型的特点可参阅本案图式及以下较好实施方式的详细说明而获得清楚地了解。
附图说明
图1为外表面印有有规律分布图案的单片玻璃的示意图。
图2为表面印有文字的单片玻璃的示意图。
图3为内表面印有随机分布图案的夹层玻璃的示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施例进一步阐述本实用新型。
一种具有高反射率镜面图案、文字的玻璃,包括玻璃本体,玻璃本体可为浮化玻璃、钢化玻璃、半钢化玻璃、低辐射镀膜玻璃、热反射镀膜玻璃。玻璃本体上设置有高反射率镜面图案、文字层,高反射率镜面图案、文字层由通过磁控溅射工艺加工得到的附着层、反射层、表面保护层组成。
参见图1,玻璃本体为单片玻璃100,高反射率镜面图案200设置在其外表面。
参见图2,玻璃本体为单片玻璃100,高反射率镜面文字300设置在其外表面。
参见图3,玻璃本体为夹层玻璃400,包括两片玻璃(也可以是两片以上玻璃),相邻玻璃之间通过中间膜(中间膜为PVB聚乙烯醇缩丁醛、EVA聚乙烯醋酸乙脂或SGP乙烯与甲基丙烯酸的共聚物有机胶粘结中间膜)粘贴在一起,高反射率镜面图案、文字层500设置在玻璃内侧面(也可以是其他面上)。
本实用新型的具有高反射率镜面图案、文字的玻璃的加工方法,包括以下步骤:
A、根据所需要的规律或随机分布图案、文字造型(正图形),制作与目标图案互补的负图形丝网板;负图形丝网板材料为尼龙或聚酯,网布的网孔数为:40~160mesh/cm;
B、在负图形丝网板的与玻璃贴合的一面上涂上可剥胶;并通过负图形丝网板将负图形印刷在玻璃面上;
C、高温烘干;烘干处理时的玻璃温度为60~150℃;
D、在对印有负图形的玻璃面上,采用磁控溅射工艺,整面覆盖由附着层、反射层、表面保护层组成的镜面膜;磁控溅射的基本原理是利用 Ar一02混合气体中的等离子体在电场和交变磁场的作用下,被加速的高能粒子轰击靶材表面,能量交换后,靶材表面的原子脱离原晶格而逸出,转移到基体表面而成膜;
E、将可剥胶从玻璃面上剥离,从而将可剥胶上的镜面膜部分去除,得到具有目标图案的玻璃。
本实用新型的加工工艺简便,目标图案具备高反射率,可在室内使用环境下正常使用,图案和玻璃的附着性能佳,可耐中性水清洗。本实用新型给建筑外立面设计提供一个设计选项,具备美化环境的作用。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型的范围内。本实用新型要求的保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。
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