[实用新型]一种激光照排设备的下片缓存系统有效

专利信息
申请号: 201320172670.2 申请日: 2013-04-09
公开(公告)号: CN203210823U 公开(公告)日: 2013-09-25
发明(设计)人: 杨松林;朱美娟 申请(专利权)人: 杭州万德激光有限公司
主分类号: B41B21/32 分类号: B41B21/32;B41B27/28
代理公司: 杭州赛科专利代理事务所 33230 代理人: 曹绍文
地址: 310012 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 激光照排 设备 下片 缓存 系统
【说明书】:

技术领域

实用新型属于制版、排字或拆版还字用的机器或附件;铅字;照相或光学排字装置的技术领域,特别涉及一种通过电路和硬件结构缩短激光照排设备内部空间并且节省下片时间的激光照排设备的下片缓存系统。

背景技术

激光照排设备现在被广泛应用于打印领域,其工作原理是由激光照排机进行光电转换,即将电脑里制作的图像和文字由电信号转变成光信号,激光束在银盐胶片上扫描--曝光,使胶片生成潜影,随后将胶片送入冲印装置进行显影、定影、水洗和烘干,完成激光照排的全过程。

然而,目前国内一些激光照排机的下片机构过于简单,占有较多内部空间,并且在出片过程中胶片与对接装置的过桥接触时间过长,导致胶片非常容易磨损,刮伤几率增大,工作效率低,出片时间长,消耗材料成本高。

实用新型内容

本实用新型解决的技术问题是,由于现有技术中,激光照排机的下片机构过于简单,而导致的出片过程中胶片与对接装置的接触时间过长,胶片易磨损,刮伤几率较大,工作效率低,出片时间长,消耗材料成本高的问题,进而提供了一种优化结构的激光照排设备的下片缓存系统。

本实用新型所采用的技术方案是,一种激光照排设备的下片缓存系统,所述激光照排设备包括激光照排机和设于激光照排机出片口外侧的对接装置,所述下片缓存系统包括配合设置的下片缓存机构和下片缓存电路,所述下片缓存电路包括电源模块及与电源模块分别连接的控制模块、翻板检测模块、胶片检测模块和运算模块,所述翻板检测模块、胶片检测模块分别与运算模块和控制模块顺次连接;所述下片缓存机构包括配合设置的胶片存储装置和胶片检测装置,所述胶片存储装置设于激光照排机的出片口内侧,所述胶片检测装置设于对接装置上;所述翻板检测模块设于胶片存储装置上,所述胶片检测模块设于胶片检测装置上。

优选地,所述胶片存储装置包括缓存压板及设于其下方的下片存储格,所述缓存压板设于滚轮后的激光照排机压辊朝向出片口的一侧;所述翻板检测模块设于缓存压板上的铰接轴上。

优选地,所述胶片检测装置为传感器。

优选地,所述运算模块包括顺次连接的电压比较模块、整流模块和放大模块。

优选地,所述控制模块包括时钟模块。

优选地,所述控制模块包括报警模块。

本实用新型提供了一种优化结构的激光照排设备的下片缓存系统,通过在下片缓存系统中配合设置下片缓存机构和下片缓存电路,在激光照排设备的激光照排机和对接装置上分别设置胶片存储装置和胶片检测装置,下片缓存电路中设置包括翻板检测模块和胶片检测模块的检测电路,当胶片检测模块检测到胶片时启动翻板检测装置控制控制模块而后控制缓存压板落下,将多余的胶片存储起来,缩短了出片过程中胶片与对接装置的接触时间,胶片寿命增加,不易刮伤,工作效率高,出片快,节约成本。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图;

图2为本实用新型的下片缓存电路结构示意图。

具体实施方式

下面结合实施例对本实用新型做进一步的详细描述,但本实用新型的保护范围并不限于此。

如图所示,本实用新型涉及一种激光照排设备的下片缓存系统,所述激光照排设备包括激光照排机1和设于激光照排机1出片口5外侧的对接装置2,所述下片缓存系统包括配合设置的下片缓存机构和下片缓存电路,所述下片缓存电路包括电源模块及与电源模块分别连接的控制模块、翻板检测模块、胶片检测模块和运算模块,所述翻板检测模块、胶片检测模块分别与运算模块和控制模块顺次连接;所述下片缓存机构包括配合设置的胶片存储装置和胶片检测装置4,所述胶片存储装置设于激光照排机1的出片口5内侧,所述胶片检测装置4设于对接装置2上;所述翻板检测模块设于胶片存储装置上,所述胶片检测模块设于胶片检测装置4上。

所述胶片存储装置包括缓存压板6及设于其下方的下片存储格7,所述缓存压板6设于滚轮8后的激光照排机1压辊朝向出片口5的一侧;所述翻板检测模块设于缓存压板6上的铰接轴上。

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