[实用新型]一种新型蚀刻片有效

专利信息
申请号: 201320132244.6 申请日: 2013-03-22
公开(公告)号: CN203192737U 公开(公告)日: 2013-09-11
发明(设计)人: 何公明 申请(专利权)人: 宁波东盛集成电路元件有限公司
主分类号: H01J1/62 分类号: H01J1/62
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 竺路玲
地址: 315800 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 蚀刻
【权利要求书】:

1.一种新型蚀刻片,其特征在于,包括:框架和栅网,所述框架呈矩形,所述栅网设于所述框架内,所述栅网与所述框架的上边框和下边框之间均设有多个连接件,在所述框架内的所述栅网被分割成多个各自独立的栅网,每一各自独立的所述栅网与相邻的所述栅网之间设有连接件,所述框架的两侧各设有一通孔。

2.根据权利要求1所述的新型蚀刻片,其特征在于,每一所述栅网内均设有一接线孔。

3.根据权利要求1所述的新型蚀刻片,其特征在于,每一所述栅网形成两排纵向排列于所述框架之内。

4.根据权利要求1所述的新型蚀刻片,其特征在于,所述框架板位于每一所述通孔的横向一侧均设有一定位孔。

5.根据权利要求1所述的新型蚀刻片,其特征在于,所述定位孔直径小于所述通孔直径。

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